摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第14-36页 |
1.1 荧光检测技术 | 第14-20页 |
1.1.1 荧光及其产生原理 | 第14-15页 |
1.1.2 荧光产生的影响因素 | 第15-17页 |
1.1.3 荧光检测作用原理及类型 | 第17-19页 |
1.1.4 荧光探针及其应用 | 第19-20页 |
1.2 中位含氯七甲川吲哚菁及其应用 | 第20-27页 |
1.2.1 中位含氯七甲川吲哚菁的结构特点 | 第20-21页 |
1.2.2 在pH检测中的应用 | 第21-24页 |
1.2.3 在生物分析领域的应用 | 第24-27页 |
1.3 中位含氯七甲川吲哚菁的结构修饰及合成方法 | 第27-34页 |
1.3.1 中位含氯七甲川吲哚菁的结构修饰 | 第27-32页 |
1.3.2 中位含氯七甲川吲哚菁的合成方法 | 第32-34页 |
1.4 选题背景和研究目的、内容及意义 | 第34-36页 |
第2章 实验材料及方法 | 第36-40页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第36-38页 |
2.1.1 实验试剂 | 第36-37页 |
2.1.2 实验仪器与设备 | 第37-38页 |
2.2 样品结构表征 | 第38页 |
2.2.1 傅立叶变换红外光谱(FTIR) | 第38页 |
2.2.2 质谱(ESI-MS) | 第38页 |
2.2.3 核磁氢谱(~1H NMR) | 第38页 |
2.3 Uv-Vis吸收和荧光光谱的测试方法 | 第38-39页 |
2.4 标准曲线绘制方法 | 第39页 |
2.5 不同pH下的Uv-Vis吸收和荧光光谱测试方法 | 第39-40页 |
第3章 氮或氧取代七甲川吲哚菁中位氯系列衍生物的合成及结构表征 | 第40-56页 |
3.1 引言 | 第40-41页 |
3.2 中位含氯七甲川吲哚菁Cy-Cls的合成 | 第41-45页 |
3.2.1 染料中间体的合成 | 第41-42页 |
3.2.2 2-氯-1-甲酰基-3-羟甲亚基环己烯缩合剂的合成 | 第42-43页 |
3.2.3 Cy-Cls的合成 | 第43-44页 |
3.2.4 Cy-Cls的分离与表征结果分析 | 第44-45页 |
3.3 氮取代Cy-Cls中位氯系列衍生物(Cy-Ns)的合成 | 第45-50页 |
3.3.1 Cy-Ns的合成路线及反应原理 | 第45-46页 |
3.3.2 Cy-Ns的合成方法 | 第46-47页 |
3.3.3 溶剂的选择与分析 | 第47页 |
3.3.4 催化剂和温度对Cy-Ns合成的影响分析 | 第47-48页 |
3.3.5 Cy-Ns的分离与表征结果分析 | 第48-50页 |
3.4 氧取代Cy-Cls中位氯系列衍生物(Cy-Os)的合成 | 第50-55页 |
3.4.1 Cy-Os的合成路线及反应原理 | 第50-51页 |
3.4.2 Cy-Os的合成方法 | 第51-52页 |
3.4.3 催化剂和温度对Cy-Os合成的影响分析 | 第52页 |
3.4.4 Cy-Os的分离与表征结果分析 | 第52-55页 |
3.5 本章小结 | 第55-56页 |
第4章 衍生物Cy-Ns和Cy-Os的紫外-可见吸收和荧光光谱性能及光稳定性 | 第56-80页 |
4.1 引言 | 第56-57页 |
4.2 Cy-Ns的Uv-Vis吸收和荧光发射光谱性能 | 第57-61页 |
4.2.1 Cy-Cls的Uv-Vis吸收和荧光发射光谱 | 第57-58页 |
4.2.2 Cy-Ns的Uv-Vis吸收和荧光发射光谱 | 第58页 |
4.2.3 Cy-Ns的摩尔消光系数 | 第58-59页 |
4.2.4 Cy-Ns的荧光量子产率 | 第59-61页 |
4.3 Cy-Os的Uv-Vis吸收和荧光发射光谱性能 | 第61-62页 |
4.3.1 Cy-Os的Uv-Vis吸收和荧光发射光谱 | 第61页 |
4.3.2 Cy-Os的摩尔消光系数 | 第61-62页 |
4.3.3 Cy-Os的荧光量子产率 | 第62页 |
4.4 溶剂对Cy-Os和Cy-Ns的Uv-Vis吸收和荧光光谱性能的影响 | 第62-68页 |
4.4.1 溶剂化效应及其对染料光谱的影响 | 第62-64页 |
4.4.2 溶剂对Cy-Ns的Uv-Vis吸收和荧光发射光谱性能的影响 | 第64-65页 |
4.4.3 溶剂对Cy-Os的Uv-Vis吸收和荧光光谱性能的影响 | 第65-68页 |
4.5 取代基对衍生物Uv-Vis吸收和荧光发射光谱性能的影响 | 第68-72页 |
4.5.1 中位氮原子对衍生物Uv-Vis吸收和荧光发射光谱性能的影响 | 第68-70页 |
4.5.2 中位氧原子对衍生物Uv-Vis吸收和荧光发射光谱性能的影响 | 第70页 |
4.5.3 吲哚环上取代基对衍生物Uv-Vis吸收和荧光光谱性能的影响 | 第70-72页 |
4.6 Cy-Os和Cy-Ns的光稳定性 | 第72-78页 |
4.6.1 染料光稳定性及其影响因素 | 第72-73页 |
4.6.2 Cy-Os的光稳定性 | 第73-74页 |
4.6.3 Cy-Ns的光稳定性 | 第74-76页 |
4.6.4 Cy-Cls的光稳定性 | 第76-77页 |
4.6.5 中位氮或氧取代对衍生物光稳定性的影响 | 第77-78页 |
4.7 本章小结 | 第78-80页 |
第5章 极端酸碱条件下衍生物Cy-Os和Cy-Ns的pH响应及其机理 | 第80-98页 |
5.1 引言 | 第80-81页 |
5.2 Cy-Os的pH响应 | 第81-88页 |
5.2.1 pH对Cy-Os的Uv-Vis吸收和荧光光谱性能的影响 | 第81-84页 |
5.2.2 极端条件下Cy-Os的烯醇式互变异构及pH响应机理 | 第84-88页 |
5.3 Cy-Ns的pH响应 | 第88-92页 |
5.3.1 pH对Cy-Ns的Uv-Vis吸收和荧光光谱性能的影响 | 第88-91页 |
5.3.2 极端条件下Cy-Ns共轭链的变化及pH响应机理 | 第91-92页 |
5.4 Cy-Cls的pH响应 | 第92-97页 |
5.4.1 pH对Cy-Cls的Uv-Vis吸收和荧光光谱性能的影响 | 第92-95页 |
5.4.2 极端条件下Cy-Cls共轭链的变化及pH响应机理 | 第95-97页 |
5.5 本章小结 | 第97-98页 |
第6章 表面活性剂和胶体粒子对Cy-Os和Cy-Ns性能的影响 | 第98-113页 |
6.1 引言 | 第98-99页 |
6.2 CTAB对Cy-Os的光谱性能及pH响应影响 | 第99-103页 |
6.2.1 CTAB对Cy-Os的光谱性能的影响 | 第99-101页 |
6.2.2 Cy-Os对CTAB的CMC的影响 | 第101页 |
6.2.3 CTAB对Cy-Os的pH响应的影响 | 第101-102页 |
6.2.4 CTAB对Cy-Os光稳定性的影响 | 第102-103页 |
6.3 CTAB对Cy-Cls和Cy-Ns的光谱性能及pH响应的影响 | 第103-109页 |
6.3.1 CTAB对Cy-Cls和Cy-Ns的光谱性能的影响 | 第103-106页 |
6.3.2 CTAB对Cy-Cls和Cy-Ns的pH响应的影响 | 第106-107页 |
6.3.3 CTAB对Cy-Cls和Cy-Ns光稳定性的影响 | 第107-109页 |
6.4 胶体粒子对Cy-Os的光谱性能及pH响应的影响 | 第109-110页 |
6.4.1 胶体粒子对Cy-Os的光谱性能的影响 | 第109页 |
6.4.2 胶体粒子对Cy-Os的pH响应的影响 | 第109-110页 |
6.5 胶体粒子对Cy-Ns和Cy-Cls的光谱性能的影响 | 第110-111页 |
6.6 本章小结 | 第111-113页 |
结论 | 第113-115页 |
参考文献 | 第115-128页 |
攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成就 | 第128-129页 |
致谢 | 第129-130页 |
个人简介 | 第130页 |