| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 钙钛矿氧化物基本简介 | 第11-12页 |
| 1.3 LaAlO_3/SrTiO_3异质结简介 | 第12-16页 |
| 1.3.1 LaAlO_3/SrTiO_3导电异质界面的发现 | 第12-13页 |
| 1.3.2 多重因素调控LaAlO_3/SrTiO_3异质性质 | 第13-16页 |
| 1.4 BiFeO_3材料简介 | 第16-17页 |
| 1.4.1 铁酸铋的结构特点 | 第16页 |
| 1.4.2 铁酸铋的主要性质 | 第16-17页 |
| 1.5 本文的研究目的及主要内容 | 第17-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第2章 制备工艺与分析方法 | 第23-33页 |
| 2.1 靶材制备 | 第23-24页 |
| 2.2 激光分子束外延 | 第24-26页 |
| 2.2.1 脉冲激光沉积技术 | 第24-25页 |
| 2.2.2 反射高能电子枪 | 第25-26页 |
| 2.3 扫描探针显微镜 | 第26-28页 |
| 2.3.1 原子力显微镜 | 第27页 |
| 2.3.2 压电力显微镜 | 第27-28页 |
| 2.3.3 开尔文探针力显微镜 | 第28页 |
| 2.4 紫外光刻 | 第28-29页 |
| 2.5 其他测试和分析方法 | 第29-30页 |
| 2.5.1 靶材和薄膜结构分析 | 第29页 |
| 2.5.2 电学性能测试 | 第29-30页 |
| 2.6 本章小结 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-33页 |
| 第3章 STO衬底刻蚀和器件结构制备 | 第33-41页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 TiO_2层终结(001)SrTiO_3衬底的刻蚀条件 | 第33-36页 |
| 3.2.1 腐蚀时间对衬底处理的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.2 腐蚀液的配比对衬底处理的影响 | 第35页 |
| 3.2.3 空气环境对衬底表面形貌影响 | 第35-36页 |
| 3.3 用光刻方法制作器件的工艺 | 第36-39页 |
| 3.3.1 光刻流程 | 第36-38页 |
| 3.3.2 最适光刻条件 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第4章 BFO/LAO/STO异质结构的制备及可逆阻变行为研究 | 第41-53页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 BFO/LAO/STO 样品的制备 | 第41页 |
| 4.3 BFO/LAO/STO异质结质量和铁电性质测试 | 第41-43页 |
| 4.4 BFO极化调控LAO/STO界面电阻 | 第43-44页 |
| 4.5 BFO/LAO/STO异质对光照的响应 | 第44-46页 |
| 4.6 对2DEG阻变的基理解释 | 第46-49页 |
| 4.7 本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 第5章 结论与展望 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
