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有单分子转子填充的酞菁钴(CoPc)-空缺阵列

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第一章 引言第10-17页
    1.1 纳米科技与纳米材料简介第10-12页
    1.2 低维纳米材料的制备及其表征技术第12-13页
    1.3 分子自组装与分子团簇第13-14页
    1.4 薄膜生长理论第14-15页
    1.5 应力与单分子转子第15-16页
        1.5.1 应力第15-16页
        1.5.2 分子转子第16页
    1.6 本论文的结构安排第16-17页
第二章 实验技术及其原理第17-31页
    2.1 超真空技术第17-23页
        2.1.1 超高真空测量第20-23页
    2.2 低温技术第23页
    2.3 扫描隧道显微镜(STM)简介第23-29页
        2.3.1 STM的工作原理第24-25页
        2.3.2 STM的基本结构第25-28页
        2.3.3 STM的工作模式第28-29页
        2.3.4 扫描隧道谱(ScanningTunnelingSpectroscopy-STS)的基本原理第29页
    2.4 强磁场技术第29-31页
第三章 有单分子转子填充的酞菁钴(CoPc)-空缺阵列第31-45页
    3.1 研究背景第31-32页
    3.2 实验部分第32-33页
    3.3 实验结果与讨论第33-44页
        3.3.1 液氮温度下(78K)CoPc单分子和分子团簇第33-35页
        3.3.2 液氦温度下(4.7K)CoPc单分子和分子团簇第35-36页
        3.3.3 液氮温度下CoPc单层薄膜第36-40页
        3.3.4 液氦温度下CoPc单分子层薄膜第40-42页
        3.3.5 CoPc密排单分子层薄膜第42-43页
        3.3.6 多层CoPc单层薄膜第43-44页
    3.4 本章小结第44-45页
第四章 结论第45-46页
参考文献第46-56页
致谢第56-57页
研究生期间发表论文情况第57页

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