| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9页 |
| 1.2 锆钛酸铅(PZT)概述 | 第9-13页 |
| 1.2.1 铁电性 | 第9-11页 |
| 1.2.2 锆钛酸铅(PZT)结构 | 第11-12页 |
| 1.2.3 锆钛酸铅(PZT)研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 阳极氧化铝(AAO)概述 | 第13-17页 |
| 1.3.1 AAO膜的结构和制备 | 第13-16页 |
| 1.3.2 AAO膜形成模型 | 第16-17页 |
| 1.4 应用AAO膜制备低维纳米材料概述 | 第17-22页 |
| 1.4.1 脉冲激光沉积法(PLD) | 第18-20页 |
| 1.4.2 匀胶旋涂法 | 第20-21页 |
| 1.4.3 电化学沉积法 | 第21-22页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 实验设备及表征方法 | 第24-29页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第24页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第24-25页 |
| 2.2 材料制备与表征方法 | 第25-28页 |
| 2.2.1 脉冲激光沉积技术 | 第25-27页 |
| 2.2.2 X射线衍射仪 | 第27页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 2.3 材料的性能测试 | 第28-29页 |
| 第3章 超薄阳极氧化铝膜的制备 | 第29-39页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 超薄阳极氧化铝(AAO)膜制备工艺 | 第29-32页 |
| 3.3 超薄AAO制备的影响因素 | 第32-36页 |
| 3.3.1 退火影响 | 第32-33页 |
| 3.3.2 电化学抛光影响 | 第33-34页 |
| 3.3.3 扩孔时间影响 | 第34-36页 |
| 3.4 超薄AAO膜形成过程 | 第36-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 脉冲激光沉积法制备锆钛酸铅纳米点 | 第39-51页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 超薄AAO膜的转移 | 第39-41页 |
| 4.3 锆钛酸铅(PZT)纳米点制备 | 第41-50页 |
| 4.3.1 直径50nm、70nm锆钛酸铅纳米点制备 | 第41-43页 |
| 4.3.2 直径90nm锆钛酸铅纳米点制备 | 第43-48页 |
| 4.3.3 不同衬底对PZT纳米点制备影响 | 第48-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 锆钛酸铅(PZT)纳米点铁电性能测试 | 第51-60页 |
| 5.1 引言 | 第51页 |
| 5.2 不同衬底制备的PZT纳米点PFM测试 | 第51-59页 |
| 5.2.1 Pt衬底制备的PZT纳米点PFM测试 | 第52-53页 |
| 5.2.2 Nb-STO衬底制备的PZT纳米点PFM测试 | 第53-59页 |
| 5.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66页 |