| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第13-15页 |
| 1 绪论 | 第15-29页 |
| 1.1 课题来源 | 第15-16页 |
| 1.2 课题研究背景 | 第16-17页 |
| 1.3 瓷砖加工设备研究现状 | 第17-26页 |
| 1.3.1 国外瓷砖抛光研究现状 | 第21-23页 |
| 1.3.2 国内瓷砖抛光研究现状 | 第23-26页 |
| 1.4 课题主要研究内容及研究意义 | 第26-27页 |
| 1.4.1 课题主要研究内容 | 第26页 |
| 1.4.2 课题研究意义 | 第26-27页 |
| 1.5 本章小结 | 第27-29页 |
| 2 抛光磨头运动学及动力学模型建立 | 第29-45页 |
| 2.1 抛光磨头结构与运动原理简介 | 第29-31页 |
| 2.2.1 抛光磨头结构简介 | 第29-30页 |
| 2.2.2 抛光磨头工作原理 | 第30-31页 |
| 2.2 抛光磨头磨粒轨迹数学模型建立 | 第31-38页 |
| 2.2.1 抛光磨头在自转和压力作用下磨粒轨迹数学模型 | 第31-33页 |
| 2.2.2 抛光磨头摆动和瓷砖进给运动下磨粒轨迹数学模型 | 第33-34页 |
| 2.2.3 主动磨块在磨头圆周运动和磨块摆动下运动学模型 | 第34-36页 |
| 2.2.4 磨块在磨头圆周运动和磨块摆动下的运动学模型 | 第36-38页 |
| 2.3 抛光磨头动力学模型建立 | 第38-43页 |
| 2.3.1 抛光磨头在垂直方向的动力学模型 | 第38-41页 |
| 2.3.2 抛光磨头在水平方向的动力学模型 | 第41-43页 |
| 2.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 3 抛光磨头的动态特性仿真研究 | 第45-63页 |
| 3.1 ADAMS软件简介 | 第45页 |
| 3.2 基于ADAMS软件的抛光磨头动态特性分析 | 第45-50页 |
| 3.2.1 抛光磨头虚拟样机的建立及验证 | 第45-47页 |
| 3.2.2 抛光磨头虚拟样机导入ADAMS软件 | 第47-48页 |
| 3.2.3 在ADAMS软件中对虚拟样机添加约束 | 第48-49页 |
| 3.2.4 在ADAMS软件中对虚拟样机添加载荷 | 第49-50页 |
| 3.2.5 仿真参数设置 | 第50页 |
| 3.3 仿真结果分析 | 第50-57页 |
| 3.4 抛光参数对抛光路径的影响仿真分析 | 第57-61页 |
| 3.4.1 仿真参数设置 | 第57页 |
| 3.4.2 仿真结果分析 | 第57-60页 |
| 3.4.3 过抛和漏抛情况分析 | 第60-61页 |
| 3.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 4 抛光磨头实验平台的搭建与实验研究 | 第63-81页 |
| 4.1 抛光磨头实验平台设计 | 第64-70页 |
| 4.1.1 外购件的简介 | 第64-65页 |
| 4.1.2 抛光磨头实验平台整体结构的设计 | 第65-66页 |
| 4.1.3 气路系统的计算与设计 | 第66-69页 |
| 4.1.4 电机调速设计 | 第69页 |
| 4.1.5 实验平台安装与功能调试 | 第69-70页 |
| 4.2 抛光实验及其数据采集 | 第70-72页 |
| 4.3 实验数据分析 | 第72-79页 |
| 4.4 本章小结 | 第79-81页 |
| 5 总结与展望 | 第81-83页 |
| 5.1 总结 | 第81-82页 |
| 5.2 展望 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 致谢 | 第87-89页 |
| 作者简介及读研期间主要科研成果 | 第89页 |
