SiO2多层光学膜的微结构表征及激光损伤特性
| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-12页 |
| 1.2 薄膜制备、表征及激光损伤研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3 激光预处理研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4 论文主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 实验原理和方法 | 第17-23页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 制备过程 | 第17-19页 |
| 2.2.1 SiO_2胶体制备 | 第17-18页 |
| 2.2.2 提拉镀膜 | 第18页 |
| 2.2.3 薄膜后处理 | 第18-19页 |
| 2.2.4 薄膜孔隙率计算 | 第19页 |
| 2.3 薄膜损伤机理及判定方法 | 第19-23页 |
| 2.3.1 薄膜损伤机理 | 第19-20页 |
| 2.3.2 薄膜损伤的判定方法 | 第20-21页 |
| 2.3.3 激光损伤定义 | 第21-23页 |
| 第三章 胶体微结构研究 | 第23-36页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 胶体制备 | 第23-24页 |
| 3.2.1 实验试剂和仪器 | 第23页 |
| 3.2.2 SiO_2胶体的合成 | 第23-24页 |
| 3.3 胶体微结构研究 | 第24-35页 |
| 3.3.1 胶体表面形貌分析 | 第24-27页 |
| 3.3.2 胶体基团含量分析 | 第27-32页 |
| 3.3.3 胶体基团结构分析 | 第32-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 单层膜及多层膜微结构研究 | 第36-56页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 单层膜微结构研究 | 第36-43页 |
| 4.2.1 单层膜表面粗糙度分析 | 第36-38页 |
| 4.2.2 单层膜表面形貌和厚度分析 | 第38-40页 |
| 4.2.3 单层膜-基底的界面结构分析 | 第40-42页 |
| 4.2.4 小结 | 第42-43页 |
| 4.3 双层膜微结构研究 | 第43-48页 |
| 4.3.1 双层膜表面粗糙度分析 | 第43-45页 |
| 4.3.2 双层膜表面形貌和厚度分析 | 第45-46页 |
| 4.3.3 双层膜-基底的界面结构分析 | 第46-48页 |
| 4.4 三层膜微结构研究 | 第48-54页 |
| 4.4.1 三层膜表面形貌和截面分析 | 第48-49页 |
| 4.4.2 三层膜-基底的界面结构分析 | 第49-53页 |
| 4.4.3 三层膜表面基团及含量分析 | 第53-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 激光辐照损伤性能的研究 | 第56-62页 |
| 5.1 引言 | 第56页 |
| 5.2 激光辐照实验 | 第56-58页 |
| 5.2.1 实验装置 | 第56-57页 |
| 5.2.2 样品准备 | 第57页 |
| 5.2.3 激光预处理 | 第57-58页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第58-61页 |
| 5.3.1 单层膜的抗激光损伤性能 | 第58-59页 |
| 5.3.2 双层膜的抗激光损伤性能 | 第59-61页 |
| 5.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 6.1 总结 | 第62-63页 |
| 6.2 展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
