| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 石墨烯简介 | 第10-15页 |
| 1.1.1 石墨烯及其他碳基材料 | 第10页 |
| 1.1.2 石墨烯的结构与性质 | 第10-13页 |
| 1.1.3 石墨烯的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.2 氧化锌简介 | 第15-18页 |
| 1.2.1 氧化锌的结构与特性 | 第15-16页 |
| 1.2.2 氧化锌纳米结构的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.3 场发射理论与研究现状 | 第18-21页 |
| 1.3.1 场发射理论 | 第18-20页 |
| 1.3.2 单纯石墨烯阴极场发射的研究现状 | 第20页 |
| 1.3.3 石墨烯基复合阴极场发射的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.4 本论文的研究意义 | 第21页 |
| 1.5 本论文的主要工作 | 第21-23页 |
| 第二章 石墨烯薄膜及复合薄膜的表征工具分析 | 第23-30页 |
| 2.1 石墨烯制备系统 | 第23-24页 |
| 2.2 石墨烯及复合薄膜的表征方法 | 第24-29页 |
| 2.2.1 光学显微镜 | 第24-25页 |
| 2.2.2 原子力显微镜和扫描电子显微镜 | 第25-28页 |
| 2.2.3 拉曼光谱分析仪和X射线衍射分析仪 | 第28-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 石墨烯薄膜的制备 | 第30-45页 |
| 3.1 石墨烯薄膜制备过程 | 第30-33页 |
| 3.2 石墨烯薄膜转移方法 | 第33-36页 |
| 3.3 化学气相沉积法制备石墨烯的表征分析 | 第36-40页 |
| 3.3.1 石墨烯形貌的光学显微镜和SEM表征及分析 | 第36-38页 |
| 3.3.2 石墨烯薄膜表面能量色谱分析表征 | 第38页 |
| 3.3.3 石墨烯薄膜表面拉曼光谱分析表征 | 第38-39页 |
| 3.3.4 石墨烯薄膜表面原子力显微镜表征 | 第39-40页 |
| 3.4 石墨烯在有机发光二极管器件方面的应用研究 | 第40-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 石墨烯/氧化锌复合薄膜的制备 | 第45-62页 |
| 4.1 石墨烯/氧化锌复合薄膜的制备 | 第45-46页 |
| 4.2 氧化锌及复合薄膜的AFM表征 | 第46-47页 |
| 4.3 石墨烯/氧化锌复合薄膜的形貌表征 | 第47-56页 |
| 4.3.1 不同反应物浓度的石墨烯/氧化锌复合薄膜的表征 | 第48-51页 |
| 4.3.2 不同反应时间的石墨烯/氧化锌复合薄膜的表征 | 第51-53页 |
| 4.3.3 不同反应温度的石墨烯/氧化锌复合薄膜的表征 | 第53-56页 |
| 4.4 铜基石墨烯表面生长氧化锌纳米阵列 | 第56-57页 |
| 4.4.1 铜基石墨烯表面生长氧化锌纳米阵列的SEM分析 | 第56-57页 |
| 4.4.2 铜基石墨烯表面生长氧化锌纳米阵列的XRD分析 | 第57页 |
| 4.5 ITO基底上石墨烯/氧化锌复合薄膜的制备 | 第57-60页 |
| 4.5.1 ITO表面上石墨烯/氧化锌复合薄膜的表征 | 第58-59页 |
| 4.5.2 ITO表面上石墨烯/氧化锌复合薄膜的元素分析 | 第59-60页 |
| 4.6 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 石墨烯阴极及复合阴极的场发射性能 | 第62-72页 |
| 5.1 场发射性能的指标参数 | 第62-63页 |
| 5.2 场致电子发射测试系统 | 第63-64页 |
| 5.3 场发射测试的过程 | 第64页 |
| 5.4 单纯石墨烯阴极场发射性能研究 | 第64-67页 |
| 5.4.1 不同生长时间的单纯石墨烯阴极的场发射性能 | 第64-66页 |
| 5.4.2 不同生长温度的单纯石墨烯阴极的场发射性能 | 第66-67页 |
| 5.5 石墨烯/氧化锌复合薄膜的场发射性能 | 第67-71页 |
| 5.5.1 不同反应物浓度的复合阴极的场发射性能 | 第67-68页 |
| 5.5.2 不同反应时间的复合阴极的场发射性能 | 第68-70页 |
| 5.5.3 不同反应温度的复合阴极的场发射性能 | 第70-71页 |
| 5.6 本章总结 | 第71-72页 |
| 第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 6.1 本工作总结 | 第72-73页 |
| 6.2 展望 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第80页 |
