摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-27页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 物理气相沉积技术(PVD) | 第13-20页 |
1.2.1 物理气相沉积技术的分类 | 第15-19页 |
1.2.2 物理气相沉积技术的发展趋势 | 第19-20页 |
1.3 多弧离子镀沉积技术 | 第20-23页 |
1.3.1 多弧离子镀简介 | 第20-21页 |
1.3.2 多弧离子镀沉积的基本原理 | 第21-22页 |
1.3.3 多弧离子镀沉积的特点 | 第22-23页 |
1.4 刀具涂层的分类 | 第23-25页 |
1.5 本论文的研究思路以及研究内容 | 第25-27页 |
第二章 实验方法和表征手段 | 第27-36页 |
2.1 试剂与仪器设备 | 第27-29页 |
2.1.1 试剂、耗材以及设备 | 第27-28页 |
2.1.2 沉积设备 | 第28-29页 |
2.2 工艺流程 | 第29-31页 |
2.3 表征手段 | 第31-34页 |
2.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第31页 |
2.3.2 扫描电镜(SEM) | 第31-32页 |
2.3.3 元素成分分析(EDS) | 第32页 |
2.3.4 显微硬度 | 第32-33页 |
2.3.5 摩擦磨损 | 第33-34页 |
2.4 抗高温性能测试 | 第34页 |
2.5 耐腐蚀测试 | 第34-36页 |
第三章 不同弧电流对Cr-Si-N涂层性能的影响 | 第36-47页 |
3.1 引言 | 第36页 |
3.2 Cr-Si-N涂层的沉积工艺与条件 | 第36-38页 |
3.2.1 沉积条件与工艺 | 第36-37页 |
3.2.2 表征手段 | 第37-38页 |
3.3 结果与讨论 | 第38-45页 |
3.3.1 涂层成分分析 | 第38页 |
3.3.2 XRD晶相分析 | 第38-39页 |
3.3.3 SEM表面与截面形貌分析 | 第39-41页 |
3.3.4 Cr-Si-N涂层的显微硬度 | 第41页 |
3.3.5 Cr-Si-N涂层的摩擦系数 | 第41-42页 |
3.3.6 Cr-Si-N涂层抗高温性能研究 | 第42-44页 |
3.3.7 Cr-Si-N涂层耐腐蚀研究 | 第44-45页 |
3.4 本章小结 | 第45-47页 |
第四章 不同弧电流对Cr-Al-Si-N涂层性能的影响 | 第47-62页 |
4.1 引言 | 第47页 |
4.2 复合Cr-Al-Si-N涂层的制备及其性能研究 | 第47-49页 |
4.2.1 复合涂层Cr-Al-Si-N的沉积参数与工艺程序 | 第47-49页 |
4.2.2 涂层的表征 | 第49页 |
4.3 结果与讨论 | 第49-60页 |
4.3.1 涂层成分分析 | 第49-50页 |
4.3.2 XRD物相检测 | 第50-51页 |
4.3.3 SEM表面与截面形貌分析 | 第51-53页 |
4.3.4 Cr-Al-Si-N涂层的显微硬度 | 第53-54页 |
4.3.5 Cr-Al-Si-N涂层的摩擦系数 | 第54-56页 |
4.3.6 Cr-Al-Si-N涂层耐腐蚀性研究 | 第56-57页 |
4.3.7 Cr-Al-Si-N涂层抗高温性能研究 | 第57-60页 |
4.4 本章小结 | 第60-62页 |
第五章 不同氧化量对Cr-Si-O-N涂层性能的影响 | 第62-76页 |
5.1 引言 | 第62页 |
5.2 Cr-Si-O-N涂层的制备工艺以及性能研究 | 第62-64页 |
5.2.1 沉积条件及其工艺流程 | 第62-63页 |
5.2.2 涂层的表征 | 第63-64页 |
5.3 结果与讨论 | 第64-74页 |
5.3.1 化学成分分析 | 第64-65页 |
5.3.2 XRD晶相分析 | 第65-66页 |
5.3.3 SEM表面与截面形貌分析 | 第66-67页 |
5.3.4 Cr-Si-O-N涂层的显微硬度 | 第67-68页 |
5.3.5 Cr-Si-O-N涂层抗高温氧化性能研究 | 第68-73页 |
5.3.5.1 XRD分析 | 第68-69页 |
5.3.5.2 SEM形貌分析 | 第69-73页 |
5.3.6 Cr-Si-O-N涂层耐腐蚀性能研究 | 第73-74页 |
5.4 本章小结 | 第74-76页 |
结论与展望 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-86页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第86-87页 |
致谢 | 第87-88页 |
附件 | 第88页 |