| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 课题来源及研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 管中导波的理论分析及应用综述 | 第9-13页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第9-11页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.3 国内外文献综述的简析 | 第12-13页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第2章 管中导波理论与 d_(36)压电晶片 | 第14-35页 |
| 2.1 引言 | 第14页 |
| 2.2 管中的导波 | 第14-21页 |
| 2.2.1 周向类 Lamb 波 | 第16-18页 |
| 2.2.2 周向类 SH 波 | 第18-19页 |
| 2.2.3 管中轴向传播的导波 | 第19-21页 |
| 2.3 对称和非对称激励下管中的导波 | 第21-25页 |
| 2.4 管中导波的频散曲线分析 | 第25-27页 |
| 2.5 管中波结构的分析 | 第27-30页 |
| 2.6 d_(36)压电晶片 | 第30-33页 |
| 2.6.1 晶体的材料 | 第30-31页 |
| 2.6.2 压电常数矩阵以及变形特性 | 第31-32页 |
| 2.6.3 与传统 PZT 的区别 | 第32-33页 |
| 2.7 本章小结 | 第33-35页 |
| 第3章 d_(36)压电晶片激发管中导波的数值模拟 | 第35-49页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 模型、激励及参数选择 | 第35-38页 |
| 3.2.1 管结构与压电晶片建模 | 第35-37页 |
| 3.2.2 建模参数的确定 | 第37-38页 |
| 3.2.3 激励信号 | 第38页 |
| 3.3 d_(36)压电晶片激励下管中的位移场 | 第38-42页 |
| 3.4 质点导波位移时程分析 | 第42-48页 |
| 3.4.1 轴向波位移结果分析 | 第42-44页 |
| 3.4.2 周向位移结果分析 | 第44-45页 |
| 3.4.3 波阵面与波速 | 第45-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 管中导波的试验研究 | 第49-63页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 基于 d_(36)的管中导波试验 | 第49-61页 |
| 4.2.1 导波模态的选择 | 第49-51页 |
| 4.2.2 试验的意义与目标 | 第51页 |
| 4.2.3 试验系统的组成 | 第51页 |
| 4.2.4 试验检测方法 | 第51-53页 |
| 4.2.5 非对称激励下管中的导波 | 第53-56页 |
| 4.2.6 对称激励下管中的导波 | 第56-58页 |
| 4.2.7 T(0,1)模态在管壁上的分布情况 | 第58-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 主要参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69页 |