| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 超导的发展历史 | 第10-11页 |
| 1.2 超导材料的背景与意义 | 第11-13页 |
| 1.3 钇系高温超导带材 | 第13-14页 |
| 1.4 IBAD-MgO路线的高温超导带材结构 | 第14-19页 |
| 1.4.1 高温超导层 | 第15-16页 |
| 1.4.2 缓冲层 | 第16页 |
| 1.4.3 IBAD织构层和同质外延层 | 第16-17页 |
| 1.4.4 非晶阻挡层和非晶成核层 | 第17-18页 |
| 1.4.5 金属基带 | 第18-19页 |
| 1.5 金属基带平整化的方法 | 第19-22页 |
| 1.5.1 化学机械抛光 | 第19-20页 |
| 1.5.2 电抛光 | 第20-21页 |
| 1.5.3 溶液沉积平整化方法 | 第21-22页 |
| 1.5.4 三种方法和织构的关系 | 第22页 |
| 1.6 YBCO高温超导带材国内外研究现状 | 第22-24页 |
| 1.7 本论文的结构安排 | 第24-25页 |
| 第二章 溶液沉积平坦化方法和薄膜表征方法 | 第25-38页 |
| 2.1 SDP法的原理 | 第25-27页 |
| 2.2 实验试剂与实验仪器 | 第27-29页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第27页 |
| 2.2.2 实验器材 | 第27-28页 |
| 2.2.3 实验设备 | 第28-29页 |
| 2.3 SDP法制备非晶薄膜的工艺流程 | 第29-30页 |
| 2.4 薄膜表征方法 | 第30-38页 |
| 2.4.1 原子力显微镜 | 第30-34页 |
| 2.4.2 X射线衍射仪 | 第34-36页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜射仪 | 第36-37页 |
| 2.4.4 测试分析仪器 | 第37-38页 |
| 第三章 溶液沉积平整化法制备非晶薄膜的工艺研究 | 第38-62页 |
| 3.1 溶剂溶质添加剂的选择 | 第39-41页 |
| 3.2 金属基带的选择 | 第41-45页 |
| 3.3 非晶Y_2O_3薄膜的沉积工艺研究 | 第45-54页 |
| 3.3.1 温度对于非晶Y_2O_3层的影响 | 第45-47页 |
| 3.3.2 浓度对于非晶Y_2O_3层的影响 | 第47-50页 |
| 3.3.3 层数对于非晶Y_2O_3层的影响 | 第50-52页 |
| 3.3.4 浸渍提拉速度对于非晶Y_2O_3层的影响 | 第52-53页 |
| 3.3.5 机械装置对于非晶Y_2O_3层的影响 | 第53-54页 |
| 3.4 非晶Y-Al-O薄膜和非晶SiO_2薄膜的研究 | 第54-58页 |
| 3.4.1 非晶Y-Al-O薄膜的研究 | 第55-57页 |
| 3.4.2 非晶SiO_2薄膜的研究 | 第57-58页 |
| 3.5 非晶Y_2O_3长带材的研究 | 第58-61页 |
| 3.6 小结 | 第61-62页 |
| 第四章 非晶Y_2O_3薄膜对于织构层的影响及其它应用 | 第62-68页 |
| 4.1 非晶Y_2O_3的微观裂纹对织构层的影响 | 第62-63页 |
| 4.2 非晶Y_2O_3对于IBAD-MgO织构层的影响 | 第63-67页 |
| 4.3 非晶Y_2O_3薄膜的其它应用 | 第67页 |
| 4.4 小结 | 第67-68页 |
| 第五章 结论与展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第75-76页 |
