| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 全息存储技术的研究进展 | 第10-15页 |
| 1.2.1 全息术简介 | 第10-12页 |
| 1.2.2 光全息存储 | 第12-13页 |
| 1.2.3 偏光全息简介 | 第13-15页 |
| 1.3 全息存储材料的研究进展 | 第15-18页 |
| 1.4 PQ/PMMA光致聚合物的研究进展 | 第18-20页 |
| 1.5 章节安排 | 第20-21页 |
| 第2章 PQ/PMMA光致聚合物的制备及其基本光学特性介绍 | 第21-29页 |
| 2.1 引言 | 第21页 |
| 2.2 PQ/PMMA光致聚合物材料的制备 | 第21-25页 |
| 2.3 PQ/PMMA样品的基本光学特性 | 第25-26页 |
| 2.4 表征全息材料特征参数 | 第26-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 PQ/PMMA材料在传统全息中的光学特性的研究 | 第29-42页 |
| 3.1 光致各向异性介质 | 第29-33页 |
| 3.1.1 各向异性介质的分子模型 | 第29-31页 |
| 3.1.2 材料的折射率调制度 | 第31-33页 |
| 3.2 材料的测试系统 | 第33-36页 |
| 3.2.1 全息实验测试系统 | 第33-35页 |
| 3.2.2 材料折射率调制度测试系统 | 第35-36页 |
| 3.3 PQ/PMMA材料性能测试 | 第36-39页 |
| 3.3.1 传统全息中衍射效率的检测 | 第36-37页 |
| 3.3.2 折射率调制度的检测 | 第37-39页 |
| 3.4 PQ含量变化对PQ/PMMA光致聚合物的影响 | 第39-41页 |
| 3.4.1 PQ含量变化对全息存储衍射效率的影响 | 第39-40页 |
| 3.4.2 PQ含量变化对折射率调制度的影响 | 第40-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 PQ/PMMA材料偏光特性的研究 | 第42-54页 |
| 4.1 偏光全息材料简介 | 第42页 |
| 4.2 偏光全息过程理论分析 | 第42-47页 |
| 4.2.1 偏光全息记录过程 | 第42-44页 |
| 4.2.2 偏光全息再现过程 | 第44-47页 |
| 4.3 基于线偏光全息理论的材料性能的测试 | 第47-53页 |
| 4.3.1 基于线偏光的偏光全息理论 | 第47-48页 |
| 4.3.2 基于线偏振光偏光全息理论的材料检测 | 第48-51页 |
| 4.3.3 PQ含量变化对偏光全息衍射效率的影响 | 第51-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 总结与展望 | 第54-56页 |
| 本文的主要工作和创新点 | 第54-55页 |
| 对进一步工作的展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-64页 |
| 攻读学位期间发表论文与研究成果清单 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
