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毛细管放电泵浦类钯氙软X射线光谱研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-23页
    1.1 研究的目的和意义第9-13页
        1.1.1 研究背景第9-12页
        1.1.2 研究目的和意义第12-13页
    1.2 毛细管放电泵浦软X射线激光研究进展第13-17页
    1.3 OFI电子碰撞机制类钯氙 41.8nm激光研究进展第17-20页
    1.4 分析与总结第20-21页
    1.5 主要研究内容第21-23页
第2章 毛细管放电泵浦类钯氙软 X 射线的理论研究第23-36页
    2.1 引言第23页
    2.2 基于Z箍缩的电子碰撞激发第23-27页
        2.2.1 毛细管放电Z箍缩效应第23-25页
        2.2.2 离子的电子碰撞激发第25-26页
        2.2.3 亚稳能级的单极激发第26-27页
    2.3 类钯氙能级参数和离子丰度的计算第27-35页
        2.3.1 类钯氙能级参数的计算第27-31页
        2.3.2 各价离子丰度的计算第31-35页
    2.4 本章小结第35-36页
第3章 毛细管放电泵浦软 X 射线激光实验装置第36-49页
    3.1 引言第36-38页
    3.2 主脉冲系统第38-44页
        3.2.1 Marx发生器第38-39页
        3.2.2 Blumlein传输线第39-41页
        3.2.3 主开关第41-42页
        3.2.4 预脉冲隔离开关第42-44页
    3.3 预脉冲系统第44-46页
        3.3.1 预脉冲电路第44-45页
        3.3.2 延时电路第45-46页
    3.4 探测系统第46-48页
        3.4.1 X射线二极管第46-47页
        3.4.2 罗兰圆谱仪第47-48页
    3.5 本章小结第48-49页
第4章 毛细管放电氙等离子体辐射时间特性和光谱第49-71页
    4.1 引言第49页
    4.2 毛细管放电氙气的辐射时间特性第49-55页
    4.3 毛细管放电氙气光谱的测量结果及分析第55-64页
        4.3.1 10nm~20nm光谱测量结果及分析第56-58页
        4.3.2 20nm~30nm光谱测量结果及分析第58-59页
        4.3.3 30nm~40nm光谱测量结果及分析第59-60页
        4.3.4 40nm~50nm光谱测量结果及分析第60-62页
        4.3.5 50nm~60nm光谱测量结果及分析第62-63页
        4.3.6 60nm~70nm光谱测量结果及分析第63-64页
    4.4 各价离子谱线强度随气压和电流的变化第64-68页
        4.4.1 各价离子谱线强度随气压的变化第64-66页
        4.4.2 各价离子谱线强度随电流幅值的变化第66-68页
    4.5 产生类钯氙 41.8nm激光的可能性分析第68-69页
    4.6 本章小结第69-71页
结论第71-72页
参考文献第72-80页
致谢第80页

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