异形工件平动研磨抛光原理的研究及实现机构的设计
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第11页 |
| 1.2 现有研磨抛光手段的优缺点 | 第11-18页 |
| 1.2.1 手工研磨抛光 | 第13页 |
| 1.2.2 机械研磨抛光 | 第13-14页 |
| 1.2.3 喷射抛光 | 第14页 |
| 1.2.4 化学抛光 | 第14-15页 |
| 1.2.5 电化学抛光技术 | 第15-16页 |
| 1.2.6 特种抛光技术 | 第16-18页 |
| 1.3 研磨抛光机理分析 | 第18-20页 |
| 1.3.1 磨削 | 第18-19页 |
| 1.3.2 腐蚀 | 第19-20页 |
| 1.4 有限元仿真技术的应用研究 | 第20页 |
| 1.5 本章小结 | 第20-21页 |
| 第2章 平动研磨抛光原理分析 | 第21-41页 |
| 2.1 磨削过程分析 | 第21-22页 |
| 2.2 抛光后表面质量评定 | 第22-26页 |
| 2.3 单颗粒材料去除模型 | 第26-34页 |
| 2.3.1 磨粒切削刃的形状及分布 | 第26-29页 |
| 2.3.2 材料去除模型 | 第29-34页 |
| 2.4 研磨抛光动力学分析 | 第34-36页 |
| 2.4.1 位置分析 | 第34-35页 |
| 2.4.2 速度分析 | 第35页 |
| 2.4.3 加速度分析 | 第35-36页 |
| 2.5 研磨抛光过程中应力场分析 | 第36-40页 |
| 2.5.1 垂直应力场求解 | 第37-38页 |
| 2.5.2 剪切应力场求解 | 第38-39页 |
| 2.5.3 颗粒冲击点应力场 | 第39-40页 |
| 2.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 平动研磨抛光设备结构设计 | 第41-59页 |
| 3.1 现有方案分析 | 第41-43页 |
| 3.1.1 砂带研磨抛光 | 第41页 |
| 3.1.2 振动研磨抛光 | 第41-43页 |
| 3.2 平动方案分析 | 第43-46页 |
| 3.2.1 连杆机构 | 第44-45页 |
| 3.2.2 丝杆平台 | 第45页 |
| 3.2.3 机构优缺点分析 | 第45-46页 |
| 3.3 总体方案设计 | 第46-48页 |
| 3.4 各系统布局及设计 | 第48-56页 |
| 3.4.1 动力机构设计 | 第48-49页 |
| 3.4.2 传动机构设计 | 第49-52页 |
| 3.4.3 执行机构设计 | 第52-54页 |
| 3.4.4 人机工程设计 | 第54-56页 |
| 3.5 关键零部件设计要点 | 第56-58页 |
| 3.5.1 转轴设计要点 | 第56页 |
| 3.5.2 平衡块设计要点 | 第56-57页 |
| 3.5.3 套轴设计要点 | 第57页 |
| 3.5.4 同步带轮设计要点 | 第57-58页 |
| 3.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 第4章 平动研磨抛光设备有限元分析 | 第59-77页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 平衡块的有限元分析 | 第59-64页 |
| 4.2.1 平衡块力学分析 | 第60-61页 |
| 4.2.2 平衡块过平衡静力学分析 | 第61-62页 |
| 4.2.3 平衡块的模态分析 | 第62-64页 |
| 4.3 转轴的有限元分析 | 第64-69页 |
| 4.3.1 转轴的静力学分析 | 第65-67页 |
| 4.3.2 转轴的模态分析 | 第67-69页 |
| 4.4 套轴的有限元分析 | 第69-72页 |
| 4.4.1 套轴的静力学分析 | 第69-70页 |
| 4.4.2 套轴的模态分析 | 第70-72页 |
| 4.5 套板的有限元分析 | 第72-75页 |
| 4.5.1 套板的静力学分析 | 第73-74页 |
| 4.5.2 套板的模态分析 | 第74-75页 |
| 4.6 本章小结 | 第75-77页 |
| 结论与展望 | 第77-79页 |
| 结论 | 第77-78页 |
| 展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 攻读学位期间发表论文 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
