| 中文摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 自旋电子学 | 第12-19页 |
| 1.2.1 历史背景 | 第12-15页 |
| 1.2.2 自旋电子学材料 | 第15-19页 |
| 1.3 二氧化铬的性质 | 第19-23页 |
| 1.3.1 二氧化铬的结构 | 第19-20页 |
| 1.3.2 二氧化铬的磁性和电学性质 | 第20-22页 |
| 1.3.3 二氧化铬的磁输运性质 | 第22-23页 |
| 1.4 本论文的研究动机和研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 薄膜的制备方法与测试仪器简介 | 第25-31页 |
| 2.1 化学气相沉积技术 | 第25-28页 |
| 2.1.1 化学气相沉积的简单介绍 | 第25-26页 |
| 2.1.2 化学气相沉积的特点及应用 | 第26-28页 |
| 2.2 脉冲激光沉积技术 | 第28-30页 |
| 2.3 薄膜样品的测试分析仪器 | 第30-31页 |
| 第三章 二氧化铬薄膜的外延生长及物性研究 | 第31-49页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 样品的制备 | 第32-33页 |
| 3.2.1 衬底的准备 | 第32页 |
| 3.2.2 样品生长 | 第32-33页 |
| 3.3 TiO_2 buffer层的的性质 | 第33-37页 |
| 3.3.1 TiO_2 buffer层的形貌特征 | 第33-35页 |
| 3.3.2 TiO_2 buffer层的晶体结构 | 第35-37页 |
| 3.4 不同衬底上外延生长的二氧化铬的性质表征 | 第37-48页 |
| 3.4.1 样品的结构和形貌 | 第38-41页 |
| 3.4.2 样品的磁性和输运性质 | 第41-48页 |
| 3.5 小结 | 第48-49页 |
| 第四章 TiO_2/CrO_2壳层纳米结构的生长及表征 | 第49-60页 |
| 4.1 引言 | 第49-51页 |
| 4.2 样品的制备 | 第51-53页 |
| 4.2.1 水热法制备纳米棒状二氧化钛阵列 | 第51-52页 |
| 4.2.2 化学气相沉积方法制备TiO_2/CrO_2壳层纳米结构 | 第52-53页 |
| 4.3 纳米棒状二氧化钛阵列的结构和物性 | 第53-54页 |
| 4.4 TiO_2/CrO_2壳层纳米结构的物性表征 | 第54-59页 |
| 4.4.1 晶体结构和表面形貌 | 第54-58页 |
| 4.4.2 磁性 | 第58-59页 |
| 4.5 小结 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-63页 |
| 5.1 本论文重要内容及结论 | 第60-61页 |
| 5.2 本论文的创新点及工作展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参加的学术会议 | 第69-70页 |
| 附件 | 第70页 |
