| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题来源 | 第8页 |
| 1.2 课题背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.3 熟料溶出的二次反应 | 第9-12页 |
| 1.3.1 熟料溶出过程 | 第9-10页 |
| 1.3.2 二次反应 | 第10-11页 |
| 1.3.3 抑制二次反应的措施 | 第11页 |
| 1.3.4 添加剂抑制熟料溶出二次反应的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.4 分子动力学模拟技术及应用研究现状 | 第12-15页 |
| 1.4.1 模拟软件 | 第12-13页 |
| 1.4.2 分子模拟技术简介 | 第13-14页 |
| 1.4.3 分子动力学模拟及其研究现状 | 第14-15页 |
| 1.5 课题研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 添加剂吸附分子模拟方法 | 第16-26页 |
| 2.1 分子模拟的研究对象 | 第16-17页 |
| 2.1.1 硅酸二钙的性质和结构 | 第16页 |
| 2.1.2 添加剂PAA、T-225 的性质和结构 | 第16-17页 |
| 2.2 添加剂分子吸附模拟相关参数 | 第17-25页 |
| 2.2.1 建立仿真模型 | 第17-18页 |
| 2.2.2 分子力场的选择 | 第18-20页 |
| 2.2.3 模型边界条件的设置 | 第20-21页 |
| 2.2.4 初始条件的设定 | 第21-22页 |
| 2.2.5 系综的设定 | 第22页 |
| 2.2.6 运动方程求解 | 第22-23页 |
| 2.2.7 分子间力的计算 | 第23页 |
| 2.2.8 平衡体系的判定 | 第23页 |
| 2.2.9 特征量的提取与分析 | 第23-25页 |
| 2.3 分子动力学（MD）模拟流程 | 第25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 真空环境下PAA、T-225 与β-硅酸二钙的吸附研究 | 第26-37页 |
| 3.1 添加剂吸附模型建立与模拟 | 第26-27页 |
| 3.1.1 吸附过程分子动力学模拟模型的建立 | 第26页 |
| 3.1.2 真空环境下添加剂吸附过程分子动力学模拟 | 第26-27页 |
| 3.2 添加剂在β-硅酸二钙表面吸附过程的分析 | 第27-36页 |
| 3.2.1 添加剂与β-硅酸二钙表面相互作用的平衡分析 | 第27-28页 |
| 3.2.2 PAA在β-硅酸二钙表面的吸附 | 第28-33页 |
| 3.2.3 T-225 在β-硅酸二钙表面的吸附 | 第33-36页 |
| 3.3 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 纯水环境下PAA、T-225 与β-硅酸二钙的吸附研究 | 第37-46页 |
| 4.1 添加剂PAA、T-225 在纯水环境下的模型构建 | 第37-39页 |
| 4.2 纯水环境下添加剂PAA、T-225 与β-硅酸二钙的吸附分析 | 第39-45页 |
| 4.2.1 添加剂与晶面相互作用的平衡分析 | 第39-40页 |
| 4.2.2 PAA、T-225 与β-硅酸二钙（110）晶面的相互作用能 | 第40-41页 |
| 4.2.3 添加剂与β-2CaO·SiO_2（110）晶面的微观结构分析 | 第41-45页 |
| 4.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 离子环境下PAA、T-225 与β-硅酸二钙的吸附研究 | 第46-57页 |
| 5.1 添加剂PAA、T-225 在铝酸钠溶液下的模型构建 | 第46-47页 |
| 5.2 铝酸钠溶液下添加剂PAA、T-225 与β-硅酸二钙的吸附理论分析 | 第47-56页 |
| 5.2.1 添加剂与晶体相互作用的平衡分析 | 第47-48页 |
| 5.2.2 PAA、T-225 与β-硅酸二钙（110）晶面的相互作用能 | 第48-49页 |
| 5.2.3 PAA、T-225 与β-2CaO·SiO_2（110）晶面的微观结构分析 | 第49-54页 |
| 5.2.4 添加剂羧基基团与Na+和水分子之间的平均作用势 | 第54-55页 |
| 5.2.5 铝酸钠溶液体系添加剂吸附过程 | 第55-56页 |
| 5.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第62-63页 |
