摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-34页 |
1.1 铯简介 | 第11页 |
1.2 铯效应 | 第11-12页 |
1.3 CsOH在有机合成中应用 | 第12-25页 |
1.3.1 构建C-C键的反应 | 第12-14页 |
1.3.2 构建C-N键的反应 | 第14-16页 |
1.3.3 构建C-P键的反应 | 第16-17页 |
1.3.4 构建C-Y (Y=O,S,Se,Te)键的反应 | 第17-20页 |
1.3.5 开环、关环反应中的应用 | 第20-21页 |
1.3.6 促进氧化反应 | 第21-22页 |
1.3.7 促进离子液体的反应 | 第22页 |
1.3.8 在官能团保护和脱保护中的应用 | 第22-23页 |
1.3.9 在不对称合成中的应用 | 第23-25页 |
1.4 3-硫醚基吲哚类化合物的应用 | 第25页 |
1.5 3-硫醚基吲哚类化合物的合成 | 第25-32页 |
1.5.1 吲哚环与硫酚/硫醇反应 | 第25-27页 |
1.5.2 吲哚环与二硫醚反应 | 第27-28页 |
1.5.3 吲哚环与磺酸及其衍生物的反应 | 第28-30页 |
1.5.4 吲哚环与N-硫代酰亚胺的反应 | 第30-31页 |
1.5.5 通过关环反应制备 | 第31-32页 |
1.6 选题背景及意义 | 第32-34页 |
第二章 氢氧化铯促进3-芳硫基吲哚衍生物的合成 | 第34-48页 |
2.1 前言 | 第34-35页 |
2.2 结果与讨论 | 第35-42页 |
2.2.1 不同碱对反应的影响 | 第36页 |
2.2.2 溶剂对反应产率的影响 | 第36-37页 |
2.2.3 碱的用量对反应产率的影响 | 第37页 |
2.2.4 时间对反应产率的影响 | 第37-38页 |
2.2.5 温度对反应产率的影响 | 第38-39页 |
2.2.6 底物适应范围研究 | 第39-40页 |
2.2.7 反应机理探究 | 第40-42页 |
2.2.8 目标产物结构确定 | 第42页 |
2.2.9 结论 | 第42页 |
2.3 实验部分 | 第42-48页 |
2.3.1 化合物3a-3x的合成 | 第43页 |
2.3.2 化合物3a-3x的谱图数据 | 第43-48页 |
第三章 氢氧化铯促进3-芳硒基吲哚衍生物的合成 | 第48-64页 |
3.1 前言 | 第48-52页 |
3.2 结果与讨论 | 第52-59页 |
3.2.1 不同碱对反应的影响 | 第52-53页 |
3.2.2 溶剂对反应产率的影响 | 第53-54页 |
3.2.3 碱的用量对反应产率的影响 | 第54-55页 |
3.2.4 时间对反应产率的影响 | 第55页 |
3.2.5 温度对反应产率的影响 | 第55页 |
3.2.6 底物适应范围研究 | 第55-57页 |
3.2.7 反应机理探究 | 第57-59页 |
3.2.8 目标产物结构确定 | 第59页 |
3.2.9 结论 | 第59页 |
3.3 实验部分 | 第59-64页 |
3.3.1 化合物5a-5s的合成 | 第59页 |
3.3.2 化合物5a-5s的谱图数据 | 第59-64页 |
第四章 氢氧化铯催化3-芳碲吲哚衍生物的合成 | 第64-73页 |
4.1 前言 | 第64页 |
4.2 结果与讨论 | 第64-70页 |
4.2.1 催化剂的选择 | 第64-65页 |
4.2.2 溶剂对反应产率的影响 | 第65页 |
4.2.3 催化剂的用量对反应产率的影响 | 第65-66页 |
4.2.4 时间对反应产率的影响 | 第66页 |
4.2.5 温度对反应产率的影响 | 第66-67页 |
4.2.6 底物适应范围研究 | 第67-68页 |
4.2.7 反应机理探究 | 第68-70页 |
4.2.8 目标产物结构确定 | 第70页 |
4.2.9 结论 | 第70页 |
4.3 实验部分 | 第70-73页 |
4.3.1 化合物7a-71的合成 | 第70页 |
4.3.2 化合物7a-71的谱图数据 | 第70-73页 |
结论 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-84页 |
附录A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文和申请的专利 | 第84-85页 |
附录B 部分目标产物的NMR谱图 | 第85-95页 |
致谢 | 第95页 |