| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第11-14页 |
| 1.2 砷化镓晶体的材料特性 | 第14-17页 |
| 1.3 化学机械抛光技术 | 第17-23页 |
| 1.3.1 化学机械抛光的研究现状和发展趋势 | 第17-19页 |
| 1.3.2 化学机械抛光的基本原理 | 第19-20页 |
| 1.3.3 化学机械抛光的主要技术要素 | 第20-22页 |
| 1.3.4 化学机械抛光的优点 | 第22-23页 |
| 1.4 国内外研究现状 | 第23-24页 |
| 1.5 课题来源和主要研究内容 | 第24-27页 |
| 1.5.1 课题来源 | 第24页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第24-27页 |
| 2 不同晶面砷化镓的各向异性研究 | 第27-43页 |
| 2.1 晶面指数和晶向指数 | 第27-29页 |
| 2.1.1 晶面和晶向 | 第27-28页 |
| 2.1.2 晶面指数和晶向指数 | 第28-29页 |
| 2.2 划痕实验基本原理 | 第29-30页 |
| 2.3 单颗粒划痕实验 | 第30-42页 |
| 2.3.1 实验样品 | 第30-32页 |
| 2.3.2 实验设备 | 第32-33页 |
| 2.3.3 动载荷划痕实验 | 第33-36页 |
| 2.3.4 恒载荷划痕实验 | 第36-42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 3 单颗磨粒模拟化学机械抛光 | 第43-55页 |
| 3.1 实验设备和材料 | 第44页 |
| 3.2 实验方法 | 第44-45页 |
| 3.3 实验分析 | 第45-53页 |
| 3.3.1 过氧化氢溶液和去离子水条件下的磨损体积分析 | 第45-47页 |
| 3.3.2 过氧化氢溶液和去离子水条件下的表面形貌分析 | 第47-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 4 不同晶面砷化镓化学机械抛光工艺实验研究 | 第55-71页 |
| 4.1 实验设备 | 第55-56页 |
| 4.2 检测仪器 | 第56-58页 |
| 4.3 化学机械抛光实验 | 第58-69页 |
| 4.3.1 化学机械抛光效果评价指标 | 第59页 |
| 4.3.2 抛光压力对材料去除率和表面粗糙度的影响 | 第59-62页 |
| 4.3.3 抛光头转速对材料去除率和表面粗糙度的影响 | 第62-64页 |
| 4.3.4 抛光盘转速对材料去除率和表面粗糙度的影响 | 第64-66页 |
| 4.3.5 抛光压力、抛光头转速、抛光盘转速对总厚度变化的影响 | 第66-69页 |
| 4.4 本章小结 | 第69-71页 |
| 5 结论与展望 | 第71-73页 |
| 5.1 结论 | 第71-72页 |
| 5.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第77-81页 |
| 学位论文数据集 | 第81页 |
