| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·磁记录的发展 | 第9-15页 |
| ·磁记录技术的发展 | 第9-13页 |
| ·磁记录材料的分类及发展 | 第13-15页 |
| ·钴铁氧体的应用 | 第15-16页 |
| ·钴铁氧体薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·磁控溅射法 | 第16-17页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 CoFe_(2-x)Si_xO_4薄膜的制备、表征及测试 | 第19-27页 |
| ·实验方法 | 第19页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4薄膜的制备 | 第19-24页 |
| ·靶材的制备 | 第19-20页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第20-22页 |
| ·薄膜的制备及退火 | 第22-24页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4 薄膜的分析与测试 | 第24-27页 |
| ·相结构分析 | 第24页 |
| ·成分分析 | 第24-25页 |
| ·磁性能测试 | 第25-27页 |
| 第三章 CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的磁性能 | 第27-44页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的制备 | 第27页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的形貌及微观结构 | 第27-32页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的形貌 | 第27-28页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的微观结构 | 第28-32页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的磁性能 | 第32-42页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的矫顽力 | 第33-37页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的磁化强度 | 第37-39页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的矩形度 | 第39-41页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/MgO 薄膜的居里温度 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 CoFe_(2-x)Si_xO_4/Si 薄膜的磁性能 | 第44-57页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/Si 薄膜的制备 | 第44页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/Si 薄膜的微观结构 | 第44-47页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/Si 薄膜的磁性能 | 第47-55页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/Si 薄膜的矫顽力 | 第48-50页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/Si 薄膜的磁化强度 | 第50-52页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/Si 薄膜的矩形度 | 第52-54页 |
| ·CoFe_(2-x)Si_xO_4/Si 薄膜的居里温度 | 第54-55页 |
| ·本章小节 | 第55-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第63-64页 |
