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氨基酸类铜缓蚀剂荧光自组装的研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
1 绪论第11-23页
   ·前言第11页
   ·氨基酸类缓蚀剂的研究及发展第11-14页
     ·缓蚀剂的应用与发展第11-12页
     ·氨基酸类缓蚀剂第12-14页
   ·缓蚀自组装技术第14-19页
     ·自组装技术及其应用第14-15页
     ·缓蚀自组装技术的研究状况第15-17页
     ·缓蚀自组装膜的表征技术第17-19页
   ·荧光分析法第19-22页
     ·荧光分析法的原理第20-21页
     ·荧光分析法的应用第21-22页
   ·本论文选题意义及研究内容第22-23页
     ·研究目的和意义第22页
     ·本论文的主要内容第22-23页
2 荧光试剂1-萘胺二乙酸钠(NADA)合成及其荧光表征第23-30页
   ·前言第23-24页
   ·实验方法第24-25页
     ·实验药品和仪器第24页
     ·1-萘胺二乙酸钠NADA的合成步骤第24-25页
   ·实验结果与讨论第25-29页
     ·NADA荧光量子产率的计算第25页
     ·NADA溶液的发射波长(EM)和激发波长(Ex)的确定第25-26页
     ·环境因素对NADA溶液荧光性质的影响第26-28页
     ·NADA对铜电极的保护作用研究第28-29页
   ·本章小结第29-30页
3 半胱氨酸荧光双层自组装膜的制备及性能研究第30-49页
   ·前言第30页
   ·实验方法第30-31页
     ·实验材料和仪器第30页
     ·电化学实验第30-31页
     ·荧光光谱实验第31页
     ·SEM测量和EDS能谱分析第31页
   ·实验结果与讨论第31-48页
     ·电位-时间曲线第31页
     ·腐蚀电化学实验(半胱氨酸单层膜组装条件的确定)第31-39页
     ·NADA/Cys/Cu荧光双自组装层膜的表征第39-46页
     ·半胱氨酸缓蚀膜的SEM测量和EDS分析第46-48页
   ·本章小结第48-49页
4 蛋氨酸荧光双层自组装膜的制备及性能研究第49-68页
   ·前言第49页
   ·实验方法第49-50页
     ·实验材料和仪器第49页
     ·电化学实验第49-50页
     ·荧光光谱实验第50页
     ·SEM测量和EDS能谱分析第50页
   ·实验结果与讨论第50-67页
     ·电位-时间曲线第50页
     ·腐蚀电化学实验(蛋氨酸单层膜组装条件的确定)第50-58页
     ·NADA/Met/Cu荧光双层膜的表征第58-64页
     ·蛋氨酸缓蚀膜的SEM测量和EDS分析第64-67页
   ·本章小结第67-68页
5 谷胱甘肽荧光双层自组装膜的制备及性能研究第68-84页
   ·前言第68页
   ·实验方法第68-69页
     ·溶液和电极制备第68-69页
     ·电化学实验第69页
     ·荧光光谱实验第69页
     ·SEM测量和EDS能谱分析第69页
   ·实验结果与讨论第69-83页
     ·腐蚀电化学实验(谷胱甘肽单层膜组装条件的确定)第69-74页
     ·NADA/Gsh/Cu荧光双层自组装膜的表征第74-78页
     ·谷胱甘肽缓蚀膜的SEM测量和EDS分析第78-83页
   ·本章小结第83-84页
6 全文总结第84-85页
参考文献第85-91页
作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文第91-92页
作者在攻读硕士学位期间所做的项目第92-93页
致谢第93页

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