利用离子束注入技术人工制备块状金刚石氮—空穴色心
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 NV色心的基本性质 | 第8-18页 |
| 1.1 NV色心的原子组成 | 第8-9页 |
| 1.2 NV色心的能级结构 | 第9-11页 |
| 1.3 NV色心的获得 | 第11-18页 |
| 第二章 离子束注入技术 | 第18-26页 |
| 2.1 离子束注入技术简介 | 第18-19页 |
| 2.2 对于金刚石材料的离子束注入 | 第19-26页 |
| 2.2.1 离子束注入的参数选择 | 第19-21页 |
| 2.2.2 为了提高NV生成效率所做的改进 | 第21-26页 |
| 第三章 人工NV色心的制备及其研究 | 第26-40页 |
| 3.1 利用掩膜进行阵列注入的实验方案 | 第27-34页 |
| 3.2 无掩膜情况下直接对金刚石进行离子束注入 | 第34-40页 |
| 第四章 微纳米加工技术 | 第40-64页 |
| 4.1 等离子体化学气相沉积法 | 第40-43页 |
| 4.1.1 等离子化学气相沉积法的原理 | 第41-42页 |
| 4.1.2 等离子体化学气相沉积法的优缺点 | 第42-43页 |
| 4.2 光学曝光技术 | 第43-53页 |
| 4.2.1 光学曝光的方式 | 第43-44页 |
| 4.2.2 光学曝光的工艺过程 | 第44-46页 |
| 4.2.3 光刻胶的特性 | 第46-48页 |
| 4.2.4 光刻胶的一般特性 | 第48-53页 |
| 4.3 刻蚀法图形转移技术之干法刻蚀 | 第53-64页 |
| 4.3.1 干法刻蚀之一:反应离子刻蚀(RIE) | 第53-56页 |
| 4.3.2 干法刻蚀之二:离子溅射刻蚀 | 第56-58页 |
| 4.3.3 干法刻蚀之三:反应离子深刻蚀 | 第58-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第70页 |