| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第14-19页 |
| 1.1.1 氮氧化物的危害与来源 | 第14-16页 |
| 1.1.2 我国氮氧化物排放近况与特征 | 第16-19页 |
| 1.2 氮氧化物净化技术 | 第19-21页 |
| 1.3 选择性催化还原技术(SCR) | 第21-26页 |
| 1.3.1 SCR技术原理 | 第21-22页 |
| 1.3.2 SCR催化反应装置 | 第22-23页 |
| 1.3.3 低温SCR脱硝催化剂研究进展 | 第23-24页 |
| 1.3.4 SCR催化反应机理 | 第24-26页 |
| 1.4 成型催化剂 | 第26-28页 |
| 1.4.1 整体式催化剂 | 第27页 |
| 1.4.2 颗粒状催化剂 | 第27-28页 |
| 1.5 研究内容与研究目标 | 第28-30页 |
| 第二章 实验部分 | 第30-38页 |
| 2.1 实验试剂 | 第30页 |
| 2.2 仪器和设备 | 第30-31页 |
| 2.3 催化剂制备方法 | 第31页 |
| 2.4 活性评价系统 | 第31-35页 |
| 2.5 催化剂表征手段 | 第35-38页 |
| 2.5.1 X射线衍射分析(XRD) | 第35页 |
| 2.5.2 透射电子显微镜(TEM) | 第35-36页 |
| 2.5.3 氮气物理吸附(BET) | 第36页 |
| 2.5.4 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第36-37页 |
| 2.5.5 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第37页 |
| 2.5.6 原位漫反射傅里叶变换红外光谱(in-situ DRIFTS) | 第37-38页 |
| 第三章 焙烧温度对V_2O_5/TiO_2三叶草形条状催化剂的影响 | 第38-46页 |
| 3.1 XRD(X射线衍射)表征结果 | 第38-39页 |
| 3.2 H_2-TPR(程序升温还原)表征结果 | 第39-40页 |
| 3.3 BET(氮气物理吸附)表征结果 | 第40页 |
| 3.4 TEM(透射电子显微镜)表征结果 | 第40-42页 |
| 3.5 NH_3-TPD(NH_3程序升温脱附) | 第42-43页 |
| 3.6 活性评价结果 | 第43-44页 |
| 3.7 抗压机械强度测试结果 | 第44-45页 |
| 3.8 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 V_2O_5/TiO_2三叶草形条状催化剂的脱硝反应机理 | 第46-54页 |
| 4.1 实验设计 | 第46-47页 |
| 4.1.1 催化剂样品NH_3(NO+O_2)吸附态研究实验 | 第46页 |
| 4.1.2 催化剂样品在170℃时的瞬态研究实验 | 第46-47页 |
| 4.1.3 催化剂样品NH_3+NO+O_2稳态研究实验 | 第47页 |
| 4.2 吸附态反应DRIFTS研究 | 第47-49页 |
| 4.2.1 反应物NH_3在催化剂表面的吸附态研究 | 第47-48页 |
| 4.2.2 反应物NO+O_2在催化剂表面的吸附态研究 | 第48-49页 |
| 4.3 瞬态反应DRIFTS研究 | 第49-51页 |
| 4.3.1 低温吸附饱和NH_3后通入NO+O_2的瞬态研究 | 第49-50页 |
| 4.3.2 低温吸附饱和NO+O_2后通入NH_3的瞬态研究 | 第50-51页 |
| 4.4 稳态反应DRIFTS研究 | 第51-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 影响催化剂活性和强度的因素 | 第54-62页 |
| 5.1 不同干燥温度的影响 | 第54-55页 |
| 5.2 不同干燥时间的影响 | 第55-57页 |
| 5.3 添加不同H_3BO_3+SiO_2的影响 | 第57-59页 |
| 5.4 催化剂的抗水抗硫性 | 第59-60页 |
| 5.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第六章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 6.1 结论 | 第62页 |
| 6.2 展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 在读期间研究成果 | 第70-72页 |
| 作者简介 | 第72页 |
| 导师简介 | 第72-74页 |
| 附件 | 第74-75页 |
