| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 无酶葡萄糖电化学传感器简介 | 第11-13页 |
| 1.2.1 无酶葡萄糖氧化催化剂的作用机理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 无酶葡萄糖氧化催化剂的研究进展 | 第12-13页 |
| 1.3 化学镀铜催化剂简介 | 第13-14页 |
| 1.4 本课题的意义与研究内容 | 第14-15页 |
| 第2章 实验材料与表征方法 | 第15-21页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第15-16页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第15-16页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第16页 |
| 2.2 材料的表征 | 第16-17页 |
| 2.2.1 X射线晶体衍射分析（XRD） | 第16-17页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第17页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜（TEM）和高分辨透射电子显微镜（HRTEM） | 第17页 |
| 2.3 电化学测试 | 第17-21页 |
| 2.3.1 循环伏安法 | 第18-19页 |
| 2.3.2 计时电流法 | 第19-20页 |
| 2.3.3 电极及表面处理 | 第20页 |
| 2.3.4 工作电极的制备 | 第20-21页 |
| 第3章 棘刺状Cu_2O@CuO-Pd核壳结构微纳米材料的制备、表征及其催化性能 | 第21-33页 |
| 3.1 引言 | 第21-22页 |
| 3.2 实验内容 | 第22-23页 |
| 3.2.1 制备Cu_2O立方体 | 第22页 |
| 3.2.2 制备Cu_2O八面体 | 第22页 |
| 3.2.3 添加Pd离子进行改性 | 第22-23页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第23-32页 |
| 3.3.1 Cu_2O立方体SEM与XRD分析 | 第23-24页 |
| 3.3.2 Cu_2O八面体SEM与XRD分析 | 第24-25页 |
| 3.3.3 Pd离子进行改性后产物的SEM、XRD分析 | 第25-27页 |
| 3.3.4 EDS检测与分析 | 第27-28页 |
| 3.3.5 催化性能测试 | 第28-32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 氧化法制备多刺状与片层状CuO、表征及其催化性能 | 第33-46页 |
| 4.1 前言 | 第33页 |
| 4.2 气相氧化法制备多刺状微纳米CuO及其表征 | 第33-38页 |
| 4.2.1 多刺状微纳米CuO的制备 | 第33-34页 |
| 4.2.2 多刺状微纳米CuO的XRD表征 | 第34-35页 |
| 4.2.3 多刺状CuO形貌表征 | 第35-38页 |
| 4.3 液相氧化法制备片层状微纳米CuO制备及其表征 | 第38-42页 |
| 4.3.1 片层状微纳米CuO的制备 | 第38-39页 |
| 4.3.2 片层状微纳米CuO的XRD表征 | 第39-40页 |
| 4.3.3 片层状CuO的形貌表征 | 第40-42页 |
| 4.4 催化性能测试 | 第42-45页 |
| 4.5 本章小节 | 第45-46页 |
| 第5章 锥刺状Cu-Pd微纳米材料的制备、表征与化学镀铜催化性能 | 第46-64页 |
| 5.1 引言 | 第46-47页 |
| 5.2 铜离子还原过程 | 第47-48页 |
| 5.3 制备锥刺状微纳米Cu粉 | 第48-56页 |
| 5.3.1 pH值对Cu粉形貌的影响 | 第50-52页 |
| 5.3.2 电流密度对Cu粉形貌影响 | 第52-54页 |
| 5.3.3 表面活性剂对Cu粉形貌的影响 | 第54-56页 |
| 5.4 锥刺状Cu-Pd微纳米材料的制备及化学镀铜的应用 | 第56-63页 |
| 5.4.1 锥刺状Cu-Pd微纳米材料的制备 | 第56-57页 |
| 5.4.2 锥刺状Cu-Pd微纳米材料检测分析 | 第57-58页 |
| 5.4.4 化学镀铜催化性能测试 | 第58-60页 |
| 5.4.5 锥刺状Cu-Pd微纳米材料的在化学镀中的应用 | 第60-63页 |
| 5.5 本章小节 | 第63-64页 |
| 第6章 结论 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第74页 |
