| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 绪论 | 第11-28页 |
| 1.1 光子晶体 | 第13-20页 |
| 1.1.1 光子晶体的概念 | 第13页 |
| 1.1.2 光子晶体的特征 | 第13-14页 |
| 1.1.3 光子晶体的分类 | 第14页 |
| 1.1.4 光子晶体的发展 | 第14-16页 |
| 1.1.5 光子晶体构筑单元的选择 | 第16-17页 |
| 1.1.6 光子晶体自组装作用力 | 第17页 |
| 1.1.7 光子晶体的制备方法 | 第17-19页 |
| 1.1.8 光子晶体的应用 | 第19-20页 |
| 1.2 层层自组装 | 第20-27页 |
| 1.2.1 层层自组装的概念 | 第21-22页 |
| 1.2.2 层层自组装的作用力 | 第22-24页 |
| 1.2.3 层层自组装的优点 | 第24页 |
| 1.2.4 层层自组装的应用 | 第24-27页 |
| 1.3 论文选题 | 第27-28页 |
| 2 组装物质TiO_2溶胶和AP-SiO_2溶胶的制备 | 第28-44页 |
| 2.1 实验试剂和仪器 | 第28-29页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第28页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第28-29页 |
| 2.2 TiO_2溶胶的制备 | 第29页 |
| 2.3 SiO_2溶胶改性 | 第29-30页 |
| 2.3.1 SiO_2溶胶的物理改性 | 第29-30页 |
| 2.3.2 SiO_2溶胶化学改性 | 第30页 |
| 2.4 TiO_2溶胶以及SiO_2溶胶、AP-SiO_2溶胶的表征 | 第30页 |
| 2.5 TiO_2溶胶的制备结果与讨论 | 第30-35页 |
| 2.5.1 TiO_2溶胶的制备影响因素研究 | 第30-34页 |
| 2.5.2 TiO_2纳米颗粒晶型表征 | 第34-35页 |
| 2.6 SiO_2溶胶的改性结果与讨论 | 第35-43页 |
| 2.6.1 四乙烯五胺对SiO_2溶胶物理改性以及表征 | 第37-38页 |
| 2.6.2 聚乙烯胺对SiO_2溶胶物理改性以及表征 | 第38-39页 |
| 2.6.3 SiO_2溶胶化学改性影响因素研究 | 第39-42页 |
| 2.6.4 AP-SiO_2纳米颗粒的FE-SEM表征 | 第42-43页 |
| 2.7 小结 | 第43-44页 |
| 3 TiO_2/SiO_2光子晶体薄膜的制备 | 第44-64页 |
| 3.1 实验部分 | 第44-45页 |
| 3.1.1 基底表面处理 | 第44页 |
| 3.1.2 组装仪器 | 第44页 |
| 3.1.3 组装物质 | 第44页 |
| 3.1.4 组装过程 | 第44页 |
| 3.1.5 薄膜的表征 | 第44-45页 |
| 3.2 组装条件的研究 | 第45-50页 |
| 3.2.1 交替重复次数的影响 | 第45-47页 |
| 3.2.2 浓度的影响 | 第47-48页 |
| 3.2.3 使用AP-SiO_2与否的影响 | 第48页 |
| 3.2.4 溶胶pH值的影响 | 第48-50页 |
| 3.2.5 提拉速率的影响 | 第50页 |
| 3.3 薄膜增长方式的研究 | 第50-52页 |
| 3.4 折射率的测量 | 第52-53页 |
| 3.4.1 TiO_2、SiO_2、AP-SiO_2纳米颗粒薄膜折射率的测量 | 第52页 |
| 3.4.2 焙烧对薄膜折射率的影响 | 第52-53页 |
| 3.5 光子晶体的组装及其反射光谱测试 | 第53-63页 |
| 3.5.1 TiO_2、SiO_2溶胶直接组装 | 第53-55页 |
| 3.5.2 借助PVS和PVAm的TiO_2、SiO_2溶胶组装 | 第55-56页 |
| 3.5.3 借助PVS和AP-SiO_2的TiO_2、SiO_2溶胶组装 | 第56-63页 |
| 3.6 小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
