| 摘要 | 第5-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 目录 | 第12-15页 |
| 主要符号列表 | 第15-16页 |
| 第1章 引言 | 第16-44页 |
| 1.1 磁流体力学在冶金中的应用 | 第16-19页 |
| 1.2 电磁搅拌技术 | 第19-41页 |
| 1.2.1 电磁搅拌技术的国内外发展现状 | 第19-22页 |
| 1.2.2 电磁搅拌的分类 | 第22-27页 |
| 1.2.3 电磁搅拌器的作用机理 | 第27-29页 |
| 1.2.4 电磁搅拌的冶金效果 | 第29-36页 |
| 1.2.5 数值模拟在连铸电磁搅拌过程中的应用 | 第36-40页 |
| 1.2.6 连铸电磁搅拌技术的发展趋势及存在问题 | 第40-41页 |
| 1.3 本课题的研究内容和技术路线 | 第41-42页 |
| 1.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第2章 连铸电磁搅拌过程的数学模型 | 第44-66页 |
| 2.1 磁场数学模型 | 第44-53页 |
| 2.1.1 基本假设 | 第44页 |
| 2.1.2 控制方程 | 第44-51页 |
| 2.1.3 电磁场方程的离散 | 第51-52页 |
| 2.1.4 边界条件与初始条件 | 第52-53页 |
| 2.2 流场数学模型 | 第53-63页 |
| 2.2.1 基本假设 | 第53页 |
| 2.2.2 控制方程 | 第53-58页 |
| 2.2.3 近壁面流动的处理 | 第58-62页 |
| 2.2.4 边界条件与初始条件 | 第62-63页 |
| 2.2.5 电磁场与流场的耦合 | 第63页 |
| 2.3 夹杂物运动轨迹模拟 | 第63-64页 |
| 2.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 第3章 旋转电磁搅拌下结晶器内磁场的数值模拟 | 第66-74页 |
| 3.1 结晶器铜管对磁场分布的影响 | 第66-67页 |
| 3.2 有无钢液对磁场分布的影响 | 第67-68页 |
| 3.3 绕组方式对磁场分布的影响 | 第68-69页 |
| 3.4 电磁搅拌器结构对磁场分布的影响 | 第69-72页 |
| 3.4.1 铁芯内磁场分布 | 第69页 |
| 3.4.2 中心面磁场分布 | 第69-70页 |
| 3.4.3 磁场和电磁力分布特性 | 第70-72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72-74页 |
| 第4章 圆坯电磁搅拌结晶器内钢液流动的数值模拟与工业应用 | 第74-104页 |
| 4.1 数值模拟结果验证 | 第75-80页 |
| 4.1.1 磁场数值模拟结果的验证 | 第75-76页 |
| 4.1.2 钢液流动数值模拟结果的验证 | 第76-80页 |
| 4.2 磁场和流场的分布特征 | 第80-86页 |
| 4.2.1 铸坯横截面和纵截面的磁场和流场分布 | 第80-84页 |
| 4.2.2 磁场和流场的分布特征 | 第84-86页 |
| 4.3 电流对磁场和流场分布的影响 | 第86-91页 |
| 4.3.1 不同电流时磁场和流场的分布 | 第86-88页 |
| 4.3.2 电流对铸坯中心而流场分布的影响 | 第88-91页 |
| 4.4 频率对磁场和流场分布影响 | 第91-96页 |
| 4.4.1 不同频率时磁场和流场的分布特征 | 第91-93页 |
| 4.4.2 频率对铸坯中心而流场分布的影响 | 第93-96页 |
| 4.5 工业应用 | 第96-102页 |
| 4.5.1 连铸坯低倍缺陷形成原因及危害 | 第96-97页 |
| 4.5.2 结晶器电磁搅拌的作用效果 | 第97-98页 |
| 4.5.3 电磁搅拌参数对连铸坯质量的影响 | 第98-100页 |
| 4.5.4 搅拌方式对连铸坯质量的影响 | 第100-101页 |
| 4.5.5 结晶器电磁搅拌改善连铸坯质量机理分析 | 第101-102页 |
| 4.6 本章小结 | 第102-104页 |
| 第5章 大方坯电磁搅拌结晶器内钢液流动的数值模拟与实验 | 第104-136页 |
| 5.1 数值模拟结果验证 | 第107-110页 |
| 5.1.1 磁场数值模拟结果的验证 | 第107页 |
| 5.1.2 钢液流动数值模拟结果的验证 | 第107-110页 |
| 5.2 磁场和流场分布特征 | 第110-116页 |
| 5.2.1 铸坯横截面和纵截面的磁场和流场分布 | 第110-114页 |
| 5.2.2 磁场和流场的分布特征 | 第114-116页 |
| 5.3 电流对磁场和流场分布的影响 | 第116-122页 |
| 5.3.1 不同电流时磁场和流场的分布 | 第116-118页 |
| 5.3.2 电流对铸坯中心面流场分布的影响 | 第118-122页 |
| 5.3.3 电流对铸坯内夹杂物运动轨迹的影响 | 第122页 |
| 5.4 频率对磁场和流场分布的影响 | 第122-128页 |
| 5.4.1 不同频率时磁场和流场的分布特征 | 第122-124页 |
| 5.4.2 频率对铸坯中心面流场分布的影响 | 第124-128页 |
| 5.4.3 频率对铸坯内夹杂物运动轨迹的影响 | 第128页 |
| 5.5 结晶器铜管厚度对磁场和流场分布的影响 | 第128-133页 |
| 5.5.1 不同结晶器铜管厚度时磁场和流场的分布 | 第128-130页 |
| 5.5.2 结晶器铜管厚度对铸坯中心面流场分布的影响 | 第130-133页 |
| 5.6 本章小结 | 第133-136页 |
| 第6章 结论 | 第136-138页 |
| 参考文献 | 第138-146页 |
| 致谢 | 第146-148页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第148-150页 |
| 作者简介 | 第150页 |
