| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 课题背景及研究目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 低聚倍半硅氧烷发展现状 | 第11-15页 |
| 1.2.1 POSS 的定义 | 第11-12页 |
| 1.2.2 POSS 的结构特点 | 第12页 |
| 1.2.3 POSS 的优越性 | 第12-13页 |
| 1.2.4 POSS 的作用机理 | 第13-14页 |
| 1.2.5 POSS 的研究现状及发展趋势 | 第14-15页 |
| 1.3 富勒烯(C_(60))发展现状 | 第15-17页 |
| 1.3.1 富勒烯(C_(60))的物理及化学性质 | 第15-16页 |
| 1.3.2 富勒烯(C_(60))的结构特征 | 第16页 |
| 1.3.3 富勒烯(C_(60))的研究进展及应用 | 第16-17页 |
| 1.4 聚甲基丙烯酸甲酯研究现状 | 第17-19页 |
| 1.4.1 PMMA 的物理化学性质 | 第17-18页 |
| 1.4.2 PMMA 材料的分类 | 第18页 |
| 1.4.3 PMMA 的应用 | 第18-19页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验材料以及研究方法 | 第20-27页 |
| 2.1 实验原料与仪器 | 第20-21页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第20页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第20-21页 |
| 2.2 试验方法 | 第21-25页 |
| 2.2.1 POSS 溶胶的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.2 富勒烯醇(C_(60)(OH)_n)的制备 | 第22-23页 |
| 2.2.3 POSS/C_(60)(OH)_n复合膜的制备 | 第23-24页 |
| 2.2.4 POSS/C_(60)(OH)_n改性 PMMA 复合膜的制备 | 第24-25页 |
| 2.3 测试及分析 | 第25-27页 |
| 2.3.1 抗静电性能测试 | 第25页 |
| 2.3.2 纳米力学性能测试 | 第25页 |
| 2.3.3 热稳定性能测试 | 第25-26页 |
| 2.3.4 光学性能测试 | 第26页 |
| 2.3.5 其他测试仪器与方法 | 第26-27页 |
| 第3章 POSS/C_(60)(OH)_n复合膜的制备与表征 | 第27-40页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 POSS 溶胶合成与表征 | 第27-32页 |
| 3.2.1 POSS 溶胶的合成 | 第27-28页 |
| 3.2.2 POSS 水解缩合反应的合成的机理 | 第28-29页 |
| 3.2.3 POSS 合成的影响因素 | 第29-30页 |
| 3.2.4 POSS 的红外光谱分析 | 第30-32页 |
| 3.3 C_(60)(OH)_n的合成与表征 | 第32-35页 |
| 3.3.1 C_(60)(OH)_n的合成 | 第32页 |
| 3.3.2 C_(60)(OH)_n的合成机理 | 第32-33页 |
| 3.3.3 C_(60)(OH)_n的合成的影响因素 | 第33页 |
| 3.3.4 C_(60)(OH)_n的红外吸收光谱 | 第33-34页 |
| 3.3.5 C_(60)(OH)_n的热分析 | 第34-35页 |
| 3.4 POSS/C_(60)(OH)_n复合膜的合成及性能表征 | 第35-39页 |
| 3.4.1 POSS/C_(60)(OH)_n复合膜的合成 | 第35-36页 |
| 3.4.2 POSS/C_(60)(OH)_n复合膜的结构分析 | 第36-37页 |
| 3.4.3 POSS/C_(60)(OH)_n复合膜表面形貌分析 | 第37-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 POSS/C_(60)(OH)_n复合膜及改性 PMMA 性能研究 | 第40-61页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 PMMA 的合成与表征 | 第40-43页 |
| 4.2.1 PMMA 的合成 | 第40-41页 |
| 4.2.2 PMMA 的合成机理 | 第41-42页 |
| 4.2.3 PMMA 的影响因素 | 第42页 |
| 4.2.4 PMMA 的红外吸收光谱 | 第42-43页 |
| 4.3 POSS/C_(60)(OH)_n改性 PMMA 复合膜的制备 | 第43-46页 |
| 4.3.1 POSS/ C_(60)(OH)_n改性 PMMA 膜红外光谱表征 | 第43-45页 |
| 4.3.2 POSS/C_(60)(OH)_n改性 PMMA 膜表面形貌 | 第45-46页 |
| 4.4 抗静电性能的研究 | 第46-50页 |
| 4.4.1 C_(60)(OH)_n对 POSS 的抗静电性能的影响 | 第47-48页 |
| 4.4.2 POSS 对 PMMA 的抗静电性能的影响 | 第48页 |
| 4.4.3 POSS/C_(60)(OH)_n对 PMMA 的抗静电性能的影响 | 第48-50页 |
| 4.5 热稳定性的研究 | 第50-53页 |
| 4.5.1 POSS/C_(60)(OH)_n复合膜的热稳定性 | 第50-51页 |
| 4.5.2 POSS/C_(60)(OH)_n改性 PMMA 复合膜的热稳定性 | 第51-53页 |
| 4.6 纳米力学性能的研究 | 第53-58页 |
| 4.6.1 纳米划痕分析 | 第53-55页 |
| 4.6.2 纳米压痕分析 | 第55-58页 |
| 4.7 光学性能的研究 | 第58-60页 |
| 4.7.1 POSS/C_(60)(OH)_n复合膜的光学分析 | 第58-59页 |
| 4.7.2 POSS/C_(60)(OH)_n改性 PMMA 复合膜的光学性能分析 | 第59-60页 |
| 4.8 小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其他成果 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
