| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-13页 |
| 第1章 前言 | 第14-23页 |
| 1.1 分子印迹技术概况 | 第14-19页 |
| 1.1.1 分子印迹原理 | 第14-15页 |
| 1.1.2 MIP制备方法 | 第15-16页 |
| 1.1.3 分子印迹技术应用 | 第16-19页 |
| 1.2 纳米材料在分子印迹电化学传感器中的应用 | 第19-21页 |
| 1.2.1 磁性纳米粒子 | 第19-20页 |
| 1.2.2 碳纳米管 | 第20页 |
| 1.2.3 石墨烯 | 第20页 |
| 1.2.4 量子点 | 第20-21页 |
| 1.3 分子印迹传感器存在的不足和发展趋势 | 第21页 |
| 1.4 本论文的研究构思 | 第21-23页 |
| 第2章 磁性多壁碳纳米管增敏卡那霉素印迹电化学传感器研究 | 第23-35页 |
| 2.1 前言 | 第23-24页 |
| 2.2 实验部分 | 第24-26页 |
| 2.2.1 试剂与仪器 | 第24页 |
| 2.2.2 聚甲基丙烯酸甲醋接枝磁性多壁碳纳米管的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.3 制备分子印迹聚合物MMIP/PMMA/MWCNTs/Fe_3O_4 | 第25页 |
| 2.2.4 印迹聚合物修饰电极MMIP/CS/CE的制备 | 第25-26页 |
| 2.2.5 样品预处理 | 第26页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第26-34页 |
| 2.3.1 磁性分子印迹传感器的制备及表征 | 第26-27页 |
| 2.3.2 电化学阻抗表征 | 第27-28页 |
| 2.3.3 红外光谱分析 | 第28-29页 |
| 2.3.4 形态表征 | 第29-30页 |
| 2.3.5 条件优化 | 第30-31页 |
| 2.3.6 标准曲线 | 第31-33页 |
| 2.3.7 MMIP/CS/CE选择性,重现性和稳定性研究 | 第33-34页 |
| 2.3.8 应用 | 第34页 |
| 2.4 小结 | 第34-35页 |
| 第3章 钴-镍双金属纳米粒子掺杂石墨烯增敏辛基酚印迹传感器研究 | 第35-49页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-37页 |
| 3.2.1 实验药品和仪器 | 第36页 |
| 3.2.2 氧化石墨烯制备 | 第36页 |
| 3.2.3 石墨烯修饰碳电极制备 | 第36页 |
| 3.2.4 辛基酚印迹传感器制备 | 第36-37页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第37-48页 |
| 3.3.1 印迹传感器的制备 | 第37-38页 |
| 3.3.2 电化学测量 | 第38-39页 |
| 3.3.3 电化学阻抗表征 | 第39-41页 |
| 3.3.4 扫描速率的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.5 形态表征 | 第42-43页 |
| 3.3.6 优化条件 | 第43-44页 |
| 3.3.7 校准曲线 | 第44-46页 |
| 3.3.8 选择性和稳定性 | 第46-47页 |
| 3.3.9 实际应用 | 第47-48页 |
| 3.4 小结 | 第48-49页 |
| 第4章 二硫化钼杂化石墨烯增敏咖啡酸印迹电化学传感器研究 | 第49-62页 |
| 4.1 引言 | 第49-50页 |
| 4.2 实验部分 | 第50-51页 |
| 4.2.1 实验仪器和药品 | 第50页 |
| 4.2.2 二硫化钼杂化石墨烯复合材料(MoS_2-Gr)制备 | 第50页 |
| 4.2.3 制备咖啡酸印迹传感器 | 第50-51页 |
| 4.2.4 电化学测量 | 第51页 |
| 4.2.5 样品预处理 | 第51页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第51-61页 |
| 4.3.1 印迹电化学传感器制备与表征 | 第51-53页 |
| 4.3.2 红外表征 | 第53-54页 |
| 4.3.3 I-t曲线测量 | 第54-55页 |
| 4.3.4 形态表征 | 第55-56页 |
| 4.3.5 电化学阻抗分析 | 第56-57页 |
| 4.3.6 条件优化 | 第57-58页 |
| 4.3.7 标准曲线 | 第58-59页 |
| 4.3.8 印迹传感器的选择性、再现性和稳定性研究 | 第59-60页 |
| 4.3.9 应用 | 第60-61页 |
| 4.4 小结 | 第61-62页 |
| 第5章 石墨烯/碳纳米管复合材料增敏四溴双酚S印迹电化学传感器研究 | 第62-73页 |
| 5.1 前言 | 第62-63页 |
| 5.2 实验部分 | 第63-65页 |
| 5.2.1 药品和仪器 | 第63页 |
| 5.2.2 胺基化石墨烯的制备 | 第63页 |
| 5.2.3 磁性碳纳米管-石墨烯复合材料的制备(Gr-MWCNTs) | 第63-64页 |
| 5.2.4 印迹电极修饰(MMIP/Gr-MWCNTs/CE) | 第64页 |
| 5.2.5 电化学检测 | 第64-65页 |
| 5.2.6 样品预处理 | 第65页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第65-72页 |
| 5.3.1 红外表征 | 第65-66页 |
| 5.3.2 电化学性能表征 | 第66-67页 |
| 5.3.3 形态表征 | 第67-68页 |
| 5.3.4 pH和孵化时间对印迹传感器的影响 | 第68-69页 |
| 5.3.5 印迹传感器对四溴双酚S电化学响应 | 第69-71页 |
| 5.3.6 选择性和稳定性研究 | 第71-72页 |
| 5.3.7 应用 | 第72页 |
| 5.4 小结 | 第72-73页 |
| 第6章 结论 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-84页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第84页 |
