基于微纳结构与SAM修饰电极的OLED性能研究
| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| abstract | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第16-27页 |
| 1.1 前言 | 第16页 |
| 1.2 OLED的历史 | 第16-18页 |
| 1.3 OLED的优势 | 第18-22页 |
| 1.3.1 OLED在显示领域的优势 | 第18-20页 |
| 1.3.2 OLED在照明领域的优势 | 第20-21页 |
| 1.3.3 OLED研究的潜在价值 | 第21-22页 |
| 1.4 OLED面临的问题以及研究进展 | 第22-23页 |
| 1.5 OLED产业发展现状 | 第23-25页 |
| 1.6 本论文研究方向 | 第25-27页 |
| 第二章 OLED基础知识 | 第27-37页 |
| 2.1 引言 | 第27页 |
| 2.2 OLED的工作原理 | 第27-28页 |
| 2.3 OLED的分类 | 第28-30页 |
| 2.4 OLED制备流程 | 第30-35页 |
| 2.4.1 基板预处理 | 第31页 |
| 2.4.2 有机层制备 | 第31-34页 |
| 2.4.3 器件封装 | 第34-35页 |
| 2.5 OLED的研究方向 | 第35-36页 |
| 2.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 微纳结构在OLED器件中的应用 | 第37-51页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 基于微纳结构的OLED器件的制备 | 第37-40页 |
| 3.2.1 基板预处理 | 第37-38页 |
| 3.2.2 PMMA/PS薄膜生长 | 第38页 |
| 3.2.3 OLED器件制备 | 第38-39页 |
| 3.2.4 器件的封装 | 第39页 |
| 3.2.5 器件的测试及相应的测试仪器 | 第39-40页 |
| 3.3 实验结果 | 第40-48页 |
| 3.3.1 四氢呋喃溶剂下的薄膜特性及器件性能 | 第40-43页 |
| 3.3.2 甲苯溶剂下的薄膜特性及器件性能 | 第43-48页 |
| 3.4 薄膜成膜机制的分析 | 第48-49页 |
| 3.5 退火温度对成膜的影响 | 第49-50页 |
| 3.6 本章结论 | 第50-51页 |
| 第四章 有机酸修饰ITO对OLED性能的影响 | 第51-59页 |
| 4.1 引言 | 第51-52页 |
| 4.2 有机酸修饰的OLED器件的制备 | 第52-53页 |
| 4.2.1 基板的预处理 | 第52页 |
| 4.2.2 基板的SAM处理 | 第52页 |
| 4.2.3 OLED器件制备 | 第52-53页 |
| 4.3 分析与讨论 | 第53-58页 |
| 4.3.1 表面能变化对器件性能的影响 | 第53-55页 |
| 4.3.2 功函数变化对器件性能的影响 | 第55-57页 |
| 4.3.3 表面能与功函数共同作用下的器件性能 | 第57-58页 |
| 4.4 本章结论 | 第58-59页 |
| 第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 5.1 本论文工作总结 | 第59页 |
| 5.2 展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第65-66页 |
