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光纤原料高纯四氯化硅精制工艺研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 文献综述第10-31页
    1.1 多晶硅行业及副产物四氯化硅简介第10-13页
        1.1.1 多晶硅行业简介第10页
        1.1.2 改良西门子法生产多晶硅流程介绍第10-12页
        1.1.3 我国多晶硅行业存在的问题第12-13页
    1.2 多晶硅生产副产物四氯化硅综合利用技术第13-17页
        1.2.1 生产气相法白炭黑第13-14页
        1.2.2 生产硅酸乙酯等有机硅产品第14-15页
        1.2.3 还原制备三氯氢硅第15-17页
        1.2.4 提纯精制生产高纯四氯化硅第17页
    1.3 高纯四氯化硅精制工艺研究进展第17-22页
        1.3.1 精馏法第17-19页
        1.3.2 吸附法第19页
        1.3.3 部分水解法第19-20页
        1.3.4 光化反应法第20-21页
        1.3.5 低温等离子法第21页
        1.3.6 其他方法第21-22页
    1.4 化工过程模拟及Aspen Plus软件介绍第22-23页
        1.4.1 化工过程模拟第22页
        1.4.2 化工过程模拟软件Aspen Plus介绍第22-23页
    1.5 差压热耦合精馏节能技术及隔板精馏节能技术介绍第23-28页
        1.5.1 差压热耦合精馏节能技术第23-24页
        1.5.2 隔壁精馏节能技术第24-25页
        1.5.3 隔壁精馏工艺模拟第25-26页
        1.5.4 隔壁精馏工艺模拟方法第26-28页
    1.6 吸附法精制高纯四氯化硅研究进展第28-30页
        1.6.1 离子交换树脂作为吸附剂第28-29页
        1.6.2 硅胶作为吸附剂第29页
        1.6.3 其他吸附剂第29-30页
    1.7 本文研究目的及意义第30-31页
第二章 精馏法制备高纯四氯化硅工艺设计与模拟第31-42页
    2.1 高纯四氯化硅精制流程的建立第31-33页
        2.1.1 四氯化硅进料及组成第31-32页
        2.1.2 工艺流程第32-33页
    2.2 高纯四氯化硅精制工艺简捷模拟第33-35页
        2.2.1 物料衡算第33-34页
        2.2.2 操作压力确定第34页
        2.2.3 物性方法选择第34-35页
        2.2.4 DSTWU简捷计算第35页
    2.3 高纯四氯化硅精制工艺严格模拟第35-40页
        2.3.1 塔板数的选择第35-37页
        2.3.2 进料位置优化第37-38页
        2.3.3 回流比优化第38-40页
    2.4 高纯四氯化硅精制工艺模拟优化结果第40-41页
    2.5 本章小结第41-42页
第三章 差压热耦合节能技术在四氯化硅精制工艺中的应用第42-48页
    3.1 差压热耦合节能工艺的建立第42-44页
        3.1.1 温度的匹配第42-43页
        3.1.2 热负荷的匹配第43-44页
    3.2 差压热耦合节能精馏工艺的模拟第44-46页
        3.2.1 差压热耦合节能精馏工艺流程第44-45页
        3.2.2 差压热耦合节能精馏工艺操作参数第45-46页
    3.3 差压热耦合节能精馏工艺经济性分析第46-47页
    3.4 本章小结第47-48页
第四章 隔壁精馏技术在四氯化硅精制工艺中的应用第48-56页
    4.1 隔壁精馏工艺建立与模拟第48-50页
        4.1.1 隔壁精馏工艺精制四氯化硅的工艺流程第48-49页
        4.1.2 隔壁精馏工艺的简捷模拟第49-50页
    4.2 隔壁精馏工艺参数优化第50-54页
        4.2.1 回流比优化第50-51页
        4.2.2 进料位置优化第51页
        4.2.3 隔壁精馏塔气液相分配比优化第51-54页
        4.2.4 产品采出位置优化第54页
    4.3 隔壁精馏塔操作参数优化结果第54-55页
    4.4 隔壁精馏塔经济性分析第55页
    4.5 本章小结第55-56页
第五章 高纯四氯化硅吸附法除硼研究第56-68页
    5.1 实验准备部分第56-58页
        5.1.1 吸附剂的选择第56-57页
        5.1.2 吸附剂的预处理第57-58页
        5.1.3 含硼氯硅烷的配制第58页
        5.1.4 硼含量的检测第58页
    5.2 实验仪器与设备第58-59页
    5.3 实验方法第59-60页
        5.3.1 吸附剂的筛选第59页
        5.3.2 吸附剂用量的影响第59-60页
        5.3.3 吸附温度的影响第60页
        5.3.4 吸附剂含水量的影响第60页
        5.3.5 吸附动力学研究第60页
    5.4 实验结果分析第60-63页
        5.4.1 吸附剂的筛选结果分析第60-61页
        5.4.2 吸附剂用量对吸附效果影响第61-62页
        5.4.3 吸附温度对吸附效果的影响第62-63页
        5.4.4 吸附剂含水量对吸附效果影响第63页
    5.5 吸附动力学研究第63-67页
        5.5.1 吸附动力学实验结果第64页
        5.5.2 树脂吸附动力学分析第64-65页
        5.5.3 吸附动力学结果拟合第65-67页
    5.6 本章小结第67-68页
第六章 结论与展望第68-70页
参考文献第70-74页
发表论文和参加科研情况说明第74-75页
致谢第75-76页

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