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F饱和及气体分子吸附Rh掺杂纳米带第一性原理计算

摘要第3-5页
Abstract第5-7页
第1章 绪论第10-16页
    1.1 纳米技术和纳米材料第10-13页
        1.1.1 纳米材料的诞生与发展第10-12页
        1.1.2 纳米材料的概念与分类第12页
        1.1.3 纳米材料的性质第12-13页
    1.2 纳米带的研究现状第13-14页
    1.3 本文的基本框架第14-16页
第2章 理论基础第16-24页
    2.1 第一性原理简述第16-17页
    2.2 绝热近似第17页
    2.3 单电子轨道近似第17-18页
    2.4 HK定理(Hohenberg-Kohn Theorenm)第18-24页
        2.4.1 KS方程(Kohn-Sham方程)第19页
        2.4.2 局域密度近似(LDA)第19-20页
        2.4.3 广义梯度近似(GGA)第20页
        2.4.4 关于计算VASP软件程序第20-24页
第3章 F饱和不同类型GaNNRs边缘的第—性原理第24-30页
    3.1 引言第24-25页
    3.2 结构模型和计算方法第25-26页
    3.3 结果与讨论第26-29页
    3.4 结论第29-30页
第4章 气体分子吸附在Rh掺杂不同石墨烯基底的第一性原理计算第30-42页
    4.1 引言第30-31页
    4.2 计算模型和方法第31-32页
    4.3 结果和讨论第32-40页
        4.3.1 吸附的几何结构和稳定性第32-36页
        4.3.2 电子结构第36-40页
    4.4 结论第40-42页
第5章 结论第42-44页
参考文献第44-52页
致谢第52-54页
攻读硕士学位期间的科研成果第54页

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