| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-22页 |
| ·纳米材料 | 第9-10页 |
| ·透明导电薄膜 | 第10-11页 |
| ·透明导电薄膜的性质 | 第10-11页 |
| ·透明导电薄膜的分类及应用 | 第11页 |
| ·透明导电氧化物薄膜 | 第11-14页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的分类及特点 | 第12-13页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的的应用 | 第13-14页 |
| ·ZnO 基透明导电氧化物薄膜 | 第14-19页 |
| ·ZnO 的基本结构 | 第14-15页 |
| ·ZnO 的基本性质与本征缺陷 | 第15-16页 |
| ·ZnO 薄膜的掺杂性质 | 第16-17页 |
| ·ZnO 薄膜的 n 型掺杂和 p 型掺杂 | 第17-18页 |
| ·Cu 掺杂氧化锌薄膜的研究 | 第18-19页 |
| ·选题依据及内容简介 | 第19-22页 |
| 第2章 氧化锌薄膜的制备及表征 | 第22-38页 |
| ·氧化锌薄膜的生长方法 | 第22-24页 |
| ·化学气象沉积法（CVD） | 第22页 |
| ·有机金属化学气象沉积法（MOCVD） | 第22-23页 |
| ·脉冲激光沉积法（PLD） | 第23页 |
| ·溶胶凝胶法（Sol-Gel） | 第23页 |
| ·分子束外延法（MBE） | 第23-24页 |
| ·磁控溅射法（Rf Magnetron Sputtering） | 第24-29页 |
| ·溅射镀膜 | 第24-26页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第26-27页 |
| ·直流磁控溅射 | 第27-28页 |
| ·射频磁控溅射 | 第28页 |
| ·反应磁控溅射 | 第28-29页 |
| ·制备 Cu 掺杂氧化锌薄膜的实验设备及过程 | 第29-33页 |
| ·膜厚和沉积速率的测量 | 第33-34页 |
| ·氧化锌薄膜的表征 | 第34-38页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第34-35页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第35-36页 |
| ·光致发光性质分析（PL） | 第36页 |
| ·紫外可见吸收光谱分析（UV-vis） | 第36-38页 |
| 第3章 结果与分析 | 第38-58页 |
| ·Cu 的稀掺杂对 ZnO 薄膜结构及光致发光性质影响 | 第38-46页 |
| ·实验条件 | 第38-39页 |
| ·薄膜的 SEM 分析 | 第39-41页 |
| ·薄膜的 XRD 分析 | 第41-43页 |
| ·薄膜的 PL 分析 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| ·Cu 的重掺杂对 ZnO 薄膜的结构及光电特性影响 | 第46-58页 |
| ·实验条件 | 第46-47页 |
| ·薄膜的 SEM 分析 | 第47-50页 |
| ·薄膜的 XRD 分析 | 第50-51页 |
| ·薄膜的 PL 分析 | 第51-53页 |
| ·薄膜的 UV-Vis 分析 | 第53-55页 |
| ·实验小结 | 第55-58页 |
| 结论 | 第58-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读学位期间发表的论文清单 | 第67页 |
