| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-34页 |
| ·磁学发展简述 | 第12-13页 |
| ·磁记录的发展历史和现状 | 第13-17页 |
| ·超高磁记录密度的要求 | 第17-18页 |
| ·磁记录的读写过程 | 第18-21页 |
| ·磁记录磁头 | 第21-26页 |
| ·写磁头的发展遇到的挑战 | 第22页 |
| ·超高密度磁记录对写磁头材料的要求 | 第22-23页 |
| ·写磁头材料的发展和现状 | 第23-26页 |
| ·磁记录介质 | 第26-28页 |
| ·磁记录技术的展望 | 第28-31页 |
| ·热辅助磁记录 | 第29页 |
| ·倾斜磁记录 | 第29-30页 |
| ·交换耦合复合介质 | 第30页 |
| ·图形介质 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-34页 |
| 第二章 基础理论 | 第34-48页 |
| ·磁性材料中的基本现象与能量表述 | 第34-38页 |
| ·自发磁化与交换作用能 | 第34页 |
| ·外场能 | 第34-35页 |
| ·退磁能 | 第35页 |
| ·磁晶各向异性能 | 第35-36页 |
| ·感生各向异性能 | 第36页 |
| ·磁致伸缩与磁弹性各向异性能 | 第36-38页 |
| ·磁畴、磁滞现象及矫顽力 | 第38-39页 |
| ·磁畴 | 第38页 |
| ·磁滞 | 第38-39页 |
| ·矫顽力 | 第39页 |
| ·晶粒尺寸效应和随机各向异性模型 | 第39-43页 |
| ·软磁材料的交流磁化特性的表征 | 第43-47页 |
| ·复数磁导率 | 第43-44页 |
| ·一般磁损耗机制简介 | 第44-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第三章 薄膜的制备与性能表征 | 第48-69页 |
| ·薄膜的制备 | 第48-53页 |
| ·制备方法 | 第48-49页 |
| ·薄膜沉积系统 | 第49-51页 |
| ·薄膜生长过程 | 第51-52页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第52-53页 |
| ·溅射用靶 | 第53页 |
| ·薄膜的结构与性能的表征 | 第53-68页 |
| ·薄膜膜厚的测量 | 第53-56页 |
| ·薄膜磁性能的测量 | 第56-58页 |
| ·高频特性测量 | 第58页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第58-60页 |
| ·薄膜成分的分析 | 第60-61页 |
| ·原子力显微镜与磁力显微镜 | 第61-63页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第63-64页 |
| ·薄膜电阻率的测定 | 第64-65页 |
| ·薄膜磁致伸缩测量 | 第65-66页 |
| ·薄膜应力的测量 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 第四章 FECON软磁薄膜的研究 | 第69-90页 |
| ·FECON合金的结构和磁学性质 | 第69-72页 |
| ·FECON合金薄膜的制备、结构与磁性的关系 | 第72-80页 |
| ·使用斜溅射以及应力基片对FECON薄膜性能的影响 | 第80-87页 |
| 本章小结 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-90页 |
| 第五章 L1_0相FEPT合金薄膜的研究 | 第90-100页 |
| ·L1_0相FEPT合金薄膜的制备 | 第91-92页 |
| ·FEPT合金薄膜的结构与磁性 | 第92-94页 |
| ·[FE/PT]_N薄膜垂直各向异性的来源 | 第94-96页 |
| ·FEPT薄膜的△M(H)曲线研究 | 第96-98页 |
| 本章小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-100页 |
| 第六章 FECON三明治结构反铁磁耦合多层膜的研究 | 第100-117页 |
| ·FECON三明治结构反铁磁耦合多层膜的制备、结构和磁性 | 第101-110页 |
| ·磁性层的溅射条件对反铁磁耦合多层膜磁性能的影响 | 第110-112页 |
| ·斜溅射对反铁磁耦合多层膜磁性能的影响 | 第112-114页 |
| 本章小结 | 第114-116页 |
| 参考文献 | 第116-117页 |
| 第七章 结论 | 第117-120页 |
| 博士论文工作期间发表的学术论文 | 第120-121页 |
| 致谢 | 第121页 |
