CO2气相碳源反应溅射制备碳掺杂Ti-O薄膜成分、结构和耐蚀性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·TiO_2光催化原理及应用 | 第10-12页 |
| ·TiO_2光催化原理 | 第10-11页 |
| ·TiO_2的光催化应用 | 第11-12页 |
| ·TiO_2光催化活性的影响因素 | 第12-15页 |
| ·禁带宽度 | 第12-13页 |
| ·晶型 | 第13-14页 |
| ·粒径与比表面积 | 第14页 |
| ·晶格缺陷 | 第14页 |
| ·表面羟基 | 第14-15页 |
| ·表面电导性 | 第15页 |
| ·其他因素的影响 | 第15页 |
| ·TiO_2的改性方法 | 第15-17页 |
| ·金属离子掺杂 | 第15页 |
| ·贵金属沉积 | 第15-16页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第16页 |
| ·光敏化 | 第16-17页 |
| ·半导体耦合 | 第17页 |
| ·碳掺杂/改性TiO_2的综述 | 第17-19页 |
| ·碳掺杂/改性TiO_2的研究进展 | 第17-18页 |
| ·碳掺杂/改性TiO_2的机理研究 | 第18-19页 |
| ·选题的目的及意义 | 第19页 |
| ·论文的研究内容 | 第19-21页 |
| 2 TiO_2薄膜的制备及表征 | 第21-24页 |
| ·TiO_2薄膜制备方法介绍 | 第21-22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21页 |
| ·化学气相沉积 | 第21页 |
| ·物理气相沉积法 | 第21-22页 |
| ·薄膜的表征 | 第22-24页 |
| ·结构和组分分析 | 第22-23页 |
| ·薄膜光学性能的分析 | 第23页 |
| ·电化学性能测试 | 第23-24页 |
| 3 掺碳Ti-O薄膜的制备及光学性能的研究 | 第24-39页 |
| ·掺碳Ti-O薄膜的制备 | 第24-25页 |
| ·掺碳Ti-O薄膜的表征 | 第25-37页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜的拉曼光谱分析 | 第26-27页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第27-34页 |
| ·薄膜的透射谱及其禁带宽度 | 第34页 |
| ·电化学测试结果 | 第34-37页 |
| ·本章总结 | 第37-39页 |
| 4 退火对薄膜成分和结构的影响 | 第39-47页 |
| ·退火对薄膜光催化性能的影响 | 第39-46页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的拉曼光谱分析 | 第40-41页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第41-46页 |
| ·本章结论 | 第46-47页 |
| 5 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-55页 |
| 硕士期间取得的科研成果 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
