摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
目录 | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第7-21页 |
·论文选题背景和意义 | 第7-8页 |
·新型薄膜反射面发展研究现状 | 第8-15页 |
·改进型充气反射面 | 第8-11页 |
·薄膜壳反射面 | 第11-12页 |
·静电成形薄膜反射面 | 第12-15页 |
·静电成形薄膜反射面关键技术研究现状 | 第15-19页 |
·薄膜制备技术 | 第15-16页 |
·薄膜预成形技术 | 第16页 |
·薄膜成形控制理论 | 第16-17页 |
·薄膜面形测量技术 | 第17-18页 |
·空间可展开支撑结构 | 第18-19页 |
·本文工作与内容 | 第19-21页 |
第二章 薄膜反射面形面优化设计 | 第21-35页 |
·引言 | 第21-22页 |
·基于薄膜无矩理论的理想抛物面形态分析 | 第22-25页 |
·应力状态分析 | 第22-24页 |
·位移分析 | 第24-25页 |
·基于复位平衡法的薄膜形面优化设计方法 | 第25-30页 |
·复位平衡方法的基本原理 | 第25页 |
·预应力施加方法 | 第25-27页 |
·优化模型 | 第27-28页 |
·优化模型求解方法 | 第28-30页 |
·数值算例 | 第30-33页 |
·本章小结 | 第33-35页 |
第三章 平面薄膜拼接曲面薄膜的制作方法 | 第35-49页 |
·引言 | 第35页 |
·曲面展平计算理论 | 第35-41页 |
·空间曲面离散和展开准则 | 第35-36页 |
·等效杆单元有限元法 | 第36-38页 |
·等效板单元有限元方法原理 | 第38-41页 |
·薄膜应力释放方法 | 第41-42页 |
·程序编制 | 第42-43页 |
·应用算例 | 第43-47页 |
·本章小结 | 第47-49页 |
第四章 静电场-薄膜结构位移场耦合分析 | 第49-67页 |
·引言 | 第49-50页 |
·两场耦合理论模型 | 第50-53页 |
·静电场力计算 | 第50-52页 |
·静电场-薄膜结构场耦合微元方程 | 第52-53页 |
·场耦合分析的有限元建模方法 | 第53-56页 |
·基本原理 | 第53-54页 |
·建模流程 | 第54-56页 |
·静电成形薄膜反射面可展开天线的薄膜面形影响因素分析 | 第56-65页 |
·面形精度影响因素 | 第56-57页 |
·算例 | 第57-65页 |
·本章小结 | 第65-67页 |
第五章 总结与展望 | 第67-69页 |
·全文总结 | 第67-68页 |
·今后工作展望 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-78页 |