刺激响应性聚合物/无机杂化材料的制备及其性能研究
目录 | 第1-8页 |
摘要 | 第8-10页 |
Abstract | 第10-12页 |
第一章 绪论 | 第12-22页 |
·介孔材料 | 第12-15页 |
·概述 | 第12-13页 |
·介孔二氧化硅 | 第13-14页 |
·羟基磷灰石 | 第14-15页 |
·刺激响应性聚合物 | 第15-17页 |
·pH 响应性聚合物 | 第15-16页 |
·光响应性聚合物 | 第16-17页 |
·温度响应性聚合物 | 第17页 |
·其他响应性聚合物 | 第17页 |
·原子转移自由基聚合 | 第17-18页 |
·介孔材料的修饰 | 第18-20页 |
·介孔二氧化硅的修饰 | 第18-19页 |
·羟基磷灰石的修饰 | 第19-20页 |
·课题的主要研究内容 | 第20-22页 |
第二章 中空介孔二氧化硅的合成及其表面修饰 | 第22-34页 |
·实验原料与仪器 | 第22-23页 |
·主要原料 | 第22-23页 |
·实验仪器 | 第23页 |
·实验过程 | 第23-25页 |
·试剂预处理 | 第23-24页 |
·HMSN 的合成 | 第24页 |
·HMSN-Br 引发剂的合成 | 第24-25页 |
·HMSN-PDMAEMA 的合成 | 第25页 |
·测试方法与表征手段 | 第25-26页 |
·结果与讨论 | 第26-32页 |
·透射电子显微镜 | 第26-27页 |
·傅里叶变换红外光谱 | 第27-28页 |
·热重分析 | 第28-29页 |
·X 射线衍射 | 第29-30页 |
·N_2吸附-脱附 | 第30-32页 |
·本章小结 | 第32-34页 |
第三章 碳羟基磷灰石的表面修饰 | 第34-46页 |
·实验原料与仪器 | 第34-35页 |
·主要原料 | 第34页 |
·实验仪器 | 第34-35页 |
·实验过程 | 第35-36页 |
·试剂预处理 | 第35页 |
·HCA-Br 引发剂的合成 | 第35-36页 |
·HCA-PDMAEMA 的合成 | 第36页 |
·测试方法与表征手段 | 第36-37页 |
·结果与讨论 | 第37-45页 |
·扫描电子显微镜 | 第37-38页 |
·傅里叶变换红外光谱 | 第38-39页 |
·热重分析 | 第39-40页 |
·X 射线衍射 | 第40-41页 |
·N_2吸附-脱附 | 第41-44页 |
·动态光散射 | 第44-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第四章 杂化材料的载药性能研究 | 第46-52页 |
·实验原料与仪器 | 第46-47页 |
·主要原料 | 第46页 |
·实验仪器 | 第46-47页 |
·实验过程 | 第47-48页 |
·标准曲线的绘制 | 第47页 |
·盐酸阿霉素的包覆 | 第47页 |
·盐酸阿霉素的释放 | 第47-48页 |
·测试方法 | 第48页 |
·结果与讨论 | 第48-51页 |
·标准曲线的绘制 | 第48-49页 |
·盐酸阿霉素的包覆 | 第49页 |
·盐酸阿霉素的释放 | 第49-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第五章 结论 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-62页 |
致谢 | 第62-64页 |
附录 | 第64页 |