| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·氧化镓的研究背景和现状 | 第10-11页 |
| ·β-Ga_2O_3的结构和基本性质 | 第11-13页 |
| ·β-Ga_2O_3的结构 | 第11页 |
| ·β-Ga_2O_3的光电性质 | 第11-13页 |
| ·研究方法 | 第13-16页 |
| ·理论计算方法简介 | 第13-15页 |
| ·密度泛函理论基本原理 | 第13页 |
| ·Kohn-Sham 方法和局域密度近似（LDA） | 第13-14页 |
| ·广义梯度近似（GGA） | 第14页 |
| ·平面波超软赝势方法 | 第14-15页 |
| ·磁控溅射镀膜技术 | 第15-16页 |
| ·本课题研究的主要目的与意义 | 第16页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第16-18页 |
| 第二章 Zn 掺杂β-Ga_2O_3结构和光学特性的第一性原理计算 | 第18-27页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·模型构建与计算细节 | 第18-19页 |
| ·结果与讨论 | 第19-26页 |
| ·结构特性 | 第19-20页 |
| ·差分电荷密度 | 第20-21页 |
| ·带结构和态密度 | 第21-24页 |
| ·光学特性 | 第24-26页 |
| ·小结 | 第26-27页 |
| 第三章 Zn 掺杂浓度对 Zn 掺杂β-Ga_2O_3结构和光学性质的影响 | 第27-34页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·模型和方法 | 第27页 |
| ·结构和讨论 | 第27-33页 |
| ·结构的稳定性 | 第27-29页 |
| ·几何结构 | 第29页 |
| ·能带结构和态密度 | 第29-31页 |
| ·光学特性 | 第31-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第四章 Ga_2O_3/ZnO 多层薄膜和 Ga_2O_3-ZnGa_2O_4复合薄膜的结构和光学特性 | 第34-41页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验过程 | 第34-35页 |
| ·结果和讨论 | 第35-39页 |
| ·晶体结构和表面形貌 | 第35-36页 |
| ·透射光谱和光学带隙 | 第36-38页 |
| ·光致发光谱（PL） | 第38-39页 |
| ·小结 | 第39-41页 |
| 第五章 结论与展望 | 第41-43页 |
| ·结论 | 第41页 |
| ·展望 | 第41-43页 |
| 参考文献 | 第43-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 在读硕士学位期间公开发表的学术论文 | 第51页 |
