| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第9-10页 |
| ·金刚石的性质 | 第10-12页 |
| ·金刚石的力学及机械性能 | 第10页 |
| ·金刚石的热学性质 | 第10-11页 |
| ·金刚石的光学及电学性能 | 第11-12页 |
| ·金刚石的化学性质 | 第12页 |
| ·硼掺杂金刚石膜的性质及应用进展 | 第12页 |
| ·石英上金刚石膜的生长及应用进展 | 第12-17页 |
| ·石英上金刚石膜的制备 | 第13-16页 |
| ·石英上硼掺杂金刚石膜的应用 | 第16-17页 |
| ·论文的选题及主要内容 | 第17-18页 |
| 第二章 实验设备简介及主要表征手段 | 第18-23页 |
| ·CVD 金刚石膜制备技术简介 | 第18-20页 |
| ·热灯丝 CVD 法 | 第18-19页 |
| ·微波等离子体 CVD 法 | 第19页 |
| ·直流热阴极等离子体 CVD 法 | 第19页 |
| ·直流弧光放电等离子体化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| ·CVD 金刚石膜的主要表征手段 | 第20-23页 |
| ·光学显微镜 | 第20页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第20页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第20页 |
| ·激光拉曼散射光谱（Raman Spectroscopy） | 第20-21页 |
| ·透射光谱 | 第21页 |
| ·I-V 曲线 | 第21-23页 |
| 第三章 HFCVD 法在石英衬底上制备硼掺杂金刚石膜 | 第23-37页 |
| ·HFCVD 简介 | 第23-24页 |
| ·实验设备简介 | 第23页 |
| ·硼源的选择 | 第23-24页 |
| ·石英衬底上硼掺杂金刚石膜的制备 | 第24-30页 |
| ·不同硼掺杂浓度金刚石膜的制备及性质研究 | 第25-28页 |
| ·不同硼掺杂浓度金刚石膜的电阻率 | 第28-29页 |
| ·不同硼掺杂浓度金刚石膜的光透过率 | 第29-30页 |
| ·不同气体压强下生长的硼掺杂金刚石膜的性质研究 | 第30-33页 |
| ·不同甲烷浓度下生长的硼掺杂金刚石膜的性质研究 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第四章 MPCVD 法制备硼掺杂金刚石膜 | 第37-48页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·微波等离子体设备简介 | 第37-39页 |
| ·未掺杂硼和硼掺杂金刚石膜的制备及性质研究 | 第39-41页 |
| ·不同甲烷浓度下生长硼掺杂金刚石膜 | 第41-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 全文总结 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 致谢 | 第55页 |