| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| ·牙种植体 | 第10-18页 |
| ·牙种植体的发展史 | 第10-12页 |
| ·牙种植体材料 | 第12-16页 |
| ·牙种植体的表面改性 | 第16-18页 |
| ·表面润湿性对植入材料的生物相容性影响 | 第18页 |
| ·钛与钛合金的微弧氧化 | 第18-22页 |
| ·微弧氧化的发展史 | 第18-19页 |
| ·微弧氧化的控制参数 | 第19-20页 |
| ·微弧氧化的机理 | 第20-22页 |
| ·钛与钛合金的微弧氧化研究 | 第22页 |
| ·本课题研究的目的和内容 | 第22-24页 |
| ·本课题研究的目的 | 第22-23页 |
| ·本课题研究的内容 | 第23-24页 |
| 2 实验材料与研究方法 | 第24-28页 |
| ·实验仪器材料 | 第24-25页 |
| ·实验研究方法 | 第25-28页 |
| ·实验研究路线 | 第25-26页 |
| ·实验研究方法 | 第26-28页 |
| 3 大脑状多孔二氧化钛膜层的制备与表征 | 第28-41页 |
| ·前言 | 第28页 |
| ·制备大脑状形貌氧化膜 | 第28-30页 |
| ·钛片预处理 | 第28页 |
| ·配置电解溶液 | 第28-29页 |
| ·样品的制备 | 第29-30页 |
| ·细胞培养 | 第30页 |
| ·实验结果和讨论 | 第30-40页 |
| ·微弧氧化时间对膜层形貌和膜层厚度的影响 | 第30-32页 |
| ·微弧氧化时间对相结构的影响 | 第32-33页 |
| ·四硼酸钠电解液的作用机理 | 第33-37页 |
| ·微弧氧化时间对润湿性的影响 | 第37-38页 |
| ·微弧氧化时间对吸水性的影响 | 第38页 |
| ·大脑皮层状形貌对细胞粘附性的研究 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 电解液浓度对纯钛微弧氧化大脑状多孔二氧化钛膜层性能的影响 | 第41-49页 |
| ·前言 | 第41页 |
| ·改变电解液浓度制备大脑状形貌氧化膜 | 第41-42页 |
| ·钛片预处理 | 第41页 |
| ·配置电解溶液 | 第41-42页 |
| ·样品的制备 | 第42页 |
| ·实验结果和讨论 | 第42-47页 |
| ·电解液浓度对形貌的影响 | 第42-44页 |
| ·电解液浓度对膜层厚度的影响 | 第44-45页 |
| ·电解液浓度对相组成的影响 | 第45-46页 |
| ·电解液浓度对浸润性的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 5 电源脉冲频率对纯钛微弧氧化大脑状多孔二氧化钛膜层性能的影响 | 第49-56页 |
| ·前言 | 第49页 |
| ·改变电源脉冲频率制备大脑状形貌氧化膜 | 第49-50页 |
| ·钛片预处理 | 第49页 |
| ·配置电解溶液 | 第49-50页 |
| ·样品的制备 | 第50页 |
| ·实验结果和讨论 | 第50-55页 |
| ·电源脉冲频率对形貌的影响 | 第50-52页 |
| ·电源脉冲频率对膜层厚度的影响 | 第52-53页 |
| ·电源脉冲频率对相结构的影响 | 第53-54页 |
| ·电源脉冲频率对浸润性的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 6 电源占空比对纯钛微弧氧化大脑状多孔二氧化钛膜层性能的影响 | 第56-63页 |
| ·前言 | 第56页 |
| ·改变电源占空比制备大脑状形貌氧化膜 | 第56-57页 |
| ·钛片预处理 | 第56页 |
| ·配置电解溶液 | 第56页 |
| ·样品的制备 | 第56-57页 |
| ·实验结果和讨论 | 第57-61页 |
| ·占空比对形貌的影响 | 第57-59页 |
| ·占空比对膜层厚度的影响 | 第59-60页 |
| ·占空比对相结构的影响 | 第60-61页 |
| ·占空比对浸润性的影响 | 第61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
