B-Ti复合反应桥膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-13页 |
| ·国外研究状况 | 第10-12页 |
| ·国内研究状况 | 第12-13页 |
| ·本文主要研究内容 | 第13-15页 |
| 2 B、Ti薄膜的制备及表征 | 第15-34页 |
| ·制备方法 | 第15-19页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第15-16页 |
| ·实验设备及材料 | 第16-17页 |
| ·制备工艺流程 | 第17-19页 |
| ·B薄膜的制备及表征 | 第19-27页 |
| ·工艺参数对B薄膜沉积速率的影响 | 第19-22页 |
| ·B薄膜材料的形貌表征 | 第22-25页 |
| ·B薄膜的电子能谱分析 | 第25-26页 |
| ·B薄膜的X-射线光电子能谱分析 | 第26-27页 |
| ·B薄膜的X-射线衍射分析 | 第27页 |
| ·Ti薄膜的制备及表征 | 第27-32页 |
| ·Ti薄膜的形貌表征 | 第28-30页 |
| ·Ti薄膜沉积速率的测量 | 第30-31页 |
| ·Ti薄膜的电子能谱分析 | 第31-32页 |
| ·Ti薄膜的X-射线衍射分析 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 3 B-Ti复合薄膜的制备及表征 | 第34-45页 |
| ·B-Ti复合薄膜的制备 | 第34页 |
| ·B-Ti复合薄膜的表征 | 第34-44页 |
| ·B-Ti复合薄膜的形貌分析 | 第35-36页 |
| ·B-Ti复合薄膜的电子能谱分析 | 第36页 |
| ·B-Ti复合薄膜的原子力显微镜分析 | 第36-37页 |
| ·B-Ti复合薄膜的差示扫描量热分析 | 第37-42页 |
| ·B-Ti复合薄膜的X-射线衍射分析 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 4 B-Ti复合桥膜的制备及电爆性能实验 | 第45-57页 |
| ·B-Ti复合点火桥的制备 | 第45-48页 |
| ·B-Ti复合点火桥的电爆性能实验 | 第48-56页 |
| ·点火电路设计及测试装置 | 第48-49页 |
| ·电爆过程的伏安特性分析 | 第49-51页 |
| ·电爆现象 | 第51-53页 |
| ·B-Ti复合桥膜电爆炸温度测定 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 5 结论 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 附录 | 第64页 |