| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 致谢 | 第9-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-27页 |
| 1 金属铜的防护 | 第16-20页 |
| ·金属铜防护的意义 | 第16页 |
| ·铜及铜合金缓蚀剂的发展 | 第16-17页 |
| ·环境友好型缓蚀剂研究现状 | 第17-20页 |
| 2 植酸概述及研究现状 | 第20-23页 |
| ·植酸结构 | 第20-21页 |
| ·植酸的性质及用途 | 第21-22页 |
| ·植酸研究现状 | 第22-23页 |
| 3 AMT 概述及研究现状 | 第23-24页 |
| ·AMT 的结构与性质 | 第23页 |
| ·AMT 研究现状 | 第23-24页 |
| 4 紫外可见薄层光谱电化学方法 | 第24-25页 |
| ·光谱电化学方法简介 | 第24页 |
| ·紫外可见薄层光谱电化学方法的优点 | 第24-25页 |
| 5 本选题的目的、意义及研究思路 | 第25-27页 |
| 第二章 Na_2SO_4介质中植酸对铜缓蚀作用的光谱电化学研究 | 第27-41页 |
| 1 实验部分 | 第27-29页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第27-28页 |
| ·溶液的配制 | 第28页 |
| ·铜盘电极制备与处理 | 第28页 |
| ·光谱电化学实验装置图及长光程薄层电解池的设计 | 第28-29页 |
| ·实验方法 | 第29页 |
| 2 结果与讨论 | 第29-39页 |
| ·铜电极在 Na_2SO_4介质中 CV 曲线 | 第29-30页 |
| ·不同浓度植酸对缓蚀效率的影响 | 第30-32页 |
| ·pH 对缓蚀效率的影响 | 第32-33页 |
| ·原位紫外-可见光谱图 | 第33-36页 |
| ·不同吸附时间下植酸缓蚀作用的 Tafel 动力学图 | 第36-38页 |
| ·不同 pH 下植酸缓蚀作用的 Tafel 动力学图 | 第38-39页 |
| 3 本章小结 | 第39-41页 |
| 第三章 NaOH 介质中植酸对铜缓蚀作用的循环伏吸法研究 | 第41-56页 |
| 1 实验部分 | 第42-43页 |
| ·试剂与仪器 | 第42页 |
| ·溶液的配制 | 第42页 |
| ·实验步骤为 | 第42-43页 |
| 2 结果与讨论 | 第43-54页 |
| ·不同 NaOH 和 NaIP_6溶液的浓度对缓蚀效率的影响 | 第43-45页 |
| ·铜电极表面植酸钠防腐膜的形态表征 | 第45-47页 |
| ·交流阻抗法测试铜电极表面氧化膜的电性质 | 第47-48页 |
| ·原位紫外-可见光谱图 | 第48-50页 |
| ·在亚铜形成电势区的 CVA 和 DCVA 图 | 第50-52页 |
| ·在二价铜生成电势区的 CVA 和 DCVA 图 | 第52-54页 |
| 3 本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 Na_2SO_4介质中 AMT 对铜缓蚀作用的光谱电化学研究 | 第56-68页 |
| 1 实验部分 | 第56-58页 |
| ·试剂与仪器 | 第56-57页 |
| ·溶液配制 | 第57页 |
| ·电极制备和实验方法 | 第57-58页 |
| 2 结果与讨论 | 第58-66页 |
| ·不同浓度 AMT 对缓蚀效率的影响 | 第58-59页 |
| ·pH 对缓蚀效率的影响 | 第59-61页 |
| ·原位紫外光谱图 | 第61-62页 |
| ·不同吸附时间下 AMT 缓蚀作用的 Tafel 动力学图 | 第62-64页 |
| ·不同浓度下 AMT 缓蚀作用的 Tafel 图 | 第64-66页 |
| 3 植酸与 AMT 的复配效果 | 第66-67页 |
| 4 本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 总结 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-79页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第79-80页 |
