日盲型紫外探测系统滤光膜的研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·光学薄膜的发展 | 第8页 |
| ·本课题的研究背景 | 第8-11页 |
| ·日盲型紫外的特性 | 第8-9页 |
| ·紫外日盲型探测系统 | 第9-10页 |
| ·紫外滤光片 | 第10-11页 |
| ·本文研究目的和工作内容 | 第11-12页 |
| 第二章 光学薄膜基本理论 | 第12-28页 |
| ·电磁场理论基础 | 第12-16页 |
| ·麦克斯韦方程组 | 第12页 |
| ·光学导纳 | 第12-15页 |
| ·边界条件 | 第15-16页 |
| ·光学薄膜特性的理论计算 | 第16-20页 |
| ·单层介质膜的反射率 | 第16-18页 |
| ·多层介质膜的反射率 | 第18-20页 |
| ·对称膜系的等效层 | 第20-22页 |
| ·双有效界面法计算滤光片参数 | 第22-24页 |
| ·干涉截止滤光片带通的计算 | 第24-28页 |
| ·通带波纹的压缩 | 第26页 |
| ·通带波纹的展宽 | 第26-28页 |
| 第三章 紫外滤光片的设计 | 第28-38页 |
| ·薄膜材料的基本要求 | 第28-29页 |
| ·紫外膜料的研究 | 第29-33页 |
| ·紫外膜料参数的确定 | 第29页 |
| ·光学常数的获得 | 第29-33页 |
| ·紫外干涉截止滤光片的设计 | 第33-38页 |
| 第四章 薄膜的制备 | 第38-49页 |
| ·镀膜设备 | 第38-41页 |
| ·真空系统 | 第38-39页 |
| ·蒸发技术 | 第39页 |
| ·离子辅助沉积技术 | 第39页 |
| ·离子源 | 第39-41页 |
| ·膜厚监控技术 | 第41-43页 |
| ·光学监控法 | 第41页 |
| ·石英晶振监控法 | 第41-43页 |
| ·工艺分析 | 第43-47页 |
| ·基本工艺参数的确定 | 第44页 |
| ·膜料的匹配实验 | 第44-45页 |
| ·膜厚的精确控制 | 第45-46页 |
| ·紫外短波通滤光片半波孔的分析 | 第46-47页 |
| ·紫外滤光片的测试与分析 | 第47-49页 |
| 第五章 误差分析 | 第49-51页 |
| ·介质色散误差 | 第49页 |
| ·光学不稳定性 | 第49-50页 |
| ·测试误差 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
