| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·高温高压下C-O-H流体的通用型状态方程 | 第11页 |
| ·深部C-O-H流体的组成研究 | 第11-12页 |
| ·深部惰性气体在硅酸盐熔融体中的溶解机制研究 | 第12-14页 |
| 2 分子动力学模拟方法简介 | 第14-28页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·分子动力学模拟原理和算法 | 第15-20页 |
| ·势能模型 | 第20-21页 |
| ·分子动力学PVTx模拟与预测 | 第21-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 3 C-O-H流体体系通用型状态方程 | 第28-38页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·C-O-H体系常见状态方程 | 第29页 |
| ·纯物质状态方程 | 第29-33页 |
| ·混合物状态方程 | 第33-35页 |
| ·逸度系数 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 4 深部C-O-H流体组成模型 | 第38-61页 |
| ·引言 | 第38-40页 |
| ·可能物种的化学势 | 第40-44页 |
| ·平衡常数法 | 第44-46页 |
| ·自由能优化算法 | 第46-49页 |
| ·模型验证 | 第49-53页 |
| ·深部流体成分研究 | 第53-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 5 SiO_2流体结构的分子动力学模拟及Ar在流体SiO_2中的溶解度 | 第61-93页 |
| ·引言 | 第61-64页 |
| ·分子动力学模拟参数 | 第64-66页 |
| ·孔隙分布分析 | 第66-76页 |
| ·二氧化硅熔融体的热力学和结构性质 | 第76-86页 |
| ·氩在二氧化硅熔融体中的溶解度与填间孔隙分布 | 第86-91页 |
| ·小结 | 第91-93页 |
| 6 总结 | 第93-94页 |
| 致谢 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-106页 |
| 附录Ⅰ Excel工作表GFluid简介 | 第106-108页 |
| 附录Ⅱ 二氧化硅熔融体中孔隙分布统计 | 第108-139页 |
| 附录Ⅲ 发表文章 | 第139页 |