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非对称电极Y分叉型1×2 Ti:LiNbO3数字光开关研究

摘要第1-3页
Abstract第3-4页
目录第4-6页
第一章 绪论第6-33页
   ·引言第6-7页
   ·光开关技术概论第7-24页
     ·光开关在光网络中的应用方向第7-8页
     ·光开关分类及介绍第8-18页
     ·数字光开关第18-24页
   ·光开关国内外进展第24-25页
   ·本论文主要内容第25-26页
 参考文献第26-33页
第二章 Ti:LiNbO_3波导技术第33-49页
   ·LiNbO_3材料特性第33-38页
     ·LiNbO_3电光效应第34-36页
     ·晶轴取向第36-38页
   ·Ti:LiNbO_3波导第38-47页
     ·Ti扩散波导浓度分布数学模型第39-40页
     ·Z切 Ti:LiNbO_3波导单模截止条件第40-43页
     ·Ti扩散浓度分布及对折射率影响第43-45页
     ·模式匹配条件第45-47页
 参考文献第47-49页
第三章 弯曲波导型电光可变衰减器设计分析第49-59页
   ·弯曲损耗原理第49-50页
   ·弯曲波导型电光 VOA设计原理第50-51页
   ·弯曲波导的优化分析第51-58页
 参考文献第58-59页
第四章 非对称电极 Y分叉型Ti:LiNbO_3数字光开关设计第59-77页
   ·Y分叉数字光开关工作原理第59-61页
   ·算法分析第61-63页
     ·FD-BPM算法分析第62页
     ·BPM算法边界条件第62-63页
   ·LiNbO_3电极调制分析第63-65页
     ·集总参数式光波导调制器第63-64页
     ·行波电极光波调制器第64-65页
   ·非对称电极 Y分叉型Ti:LiNbO_3数字光开关设计第65-75页
     ·设计原理第65-67页
     ·Y分支尖角的优化设计第67-68页
     ·开关参数优化第68-72页
     ·版图制作第72-75页
 参考文献第75-77页
第五章 工艺制作及测试第77-88页
   ·基片清洗第77-78页
   ·波导制作第78-81页
     ·光刻第78-79页
     ·提浮法制作 Ti膜图形第79页
     ·Ti扩散第79-81页
   ·缓冲层和电极制作第81页
   ·端面抛光第81-82页
   ·制作过程中出现的问题第82-85页
   ·通光第85-87页
 参考文献第87-88页
第六章 总结和展望第88-90页
   ·总结第88-89页
   ·展望第89-90页
致谢辞第90-91页
附录:硕士期间发表论文及申请专利情况第91页

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