| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-13页 |
| 致谢 | 第13-20页 |
| 第一章 绪论 | 第20-45页 |
| ·引言 | 第20-21页 |
| ·纳米材料的内涵与性质 | 第21-24页 |
| ·纳米材料的概念 | 第21页 |
| ·纳米材料的特性 | 第21-24页 |
| ·一维纳米材料的研究进展和发展趋势 | 第24-38页 |
| ·一维纳米材料的合成制备 | 第24-33页 |
| ·气相法 | 第25-30页 |
| ·液相法 | 第30-32页 |
| ·模板法 | 第32-33页 |
| ·一维纳米材料制备的发展趋势 | 第33-36页 |
| ·一维纳米材料物性研究进展 | 第36-38页 |
| ·本文选题背景与研究内容 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-45页 |
| 第二章 氧化硅纳米线阵列的合成及其发光性能研究 | 第45-56页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验装置和制备方法 | 第45-47页 |
| ·SiO_X纳米线阵列的制备、表征及发光性能研究 | 第47-53页 |
| ·实验过程和测试 | 第47页 |
| ·实验结果与讨论 | 第47-53页 |
| ·氧化硅纳米线阵列的表征 | 第47-50页 |
| ·氧化硅纳米线阵列的生长机制 | 第50-52页 |
| ·氧化硅纳米线阵列的发光特性 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 第三章 三维球形CdS纳米锥阵列的合成及其结构和发光性能研究 | 第56-73页 |
| ·引言 | 第56-58页 |
| ·实验过程与表征 | 第58页 |
| ·三维球状CdS纳米锥阵列的制备过程 | 第58页 |
| ·三维球状CdS纳米锥阵列的表征与测试 | 第58页 |
| ·实验结果与分析 | 第58-69页 |
| ·三维CdS纳米锥球形阵列的形貌 | 第58-61页 |
| ·三维CdS纳米锥球形阵列的结构与成份 | 第61-64页 |
| ·三维CdS纳米锥球形阵列的生长机制 | 第64-67页 |
| ·三维CdS纳米锥球形阵列的发光特性 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 第四章 铜及其合金衬底上生长二元氮化物纳米线有序结构 | 第73-89页 |
| ·引言 | 第73页 |
| ·铜和铜—铟合金衬底上生长GaN微米/纳米锥束 | 第73-82页 |
| ·引言 | 第73-74页 |
| ·实验过程与表征 | 第74-75页 |
| ·金属衬底的准备 | 第74页 |
| ·GaN纳米锥束制备过程 | 第74页 |
| ·样品表征 | 第74-75页 |
| ·实验结果和分析 | 第75-82页 |
| ·Cu片衬底上生长GaN微米/纳米锥束 | 第75-79页 |
| ·Cu95In5合金衬底上生长GaN微米锥束 | 第79页 |
| ·GaN微米/纳米锥束的生长机制 | 第79-80页 |
| ·GaN微米/纳米锥束的光致发光特性 | 第80-82页 |
| ·铜衬底上生长有序GaN纳米线 | 第82-84页 |
| ·实验过程 | 第82页 |
| ·实验结果与讨论 | 第82-84页 |
| ·铜衬底上定位生长有序InN纳米棒阵列 | 第84-85页 |
| ·实验过程 | 第84页 |
| ·实验结果与分析 | 第84-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-89页 |
| 第五章 Ga催化生长三元合金Si-ZnS纳米线及其发光性质 | 第89-99页 |
| ·引言 | 第89-90页 |
| ·实验过程和测试 | 第90页 |
| ·三元Si-ZnS纳米线的制备过程 | 第90页 |
| ·三元Si-ZnS纳米线的表征测试 | 第90页 |
| ·实验结果与分析 | 第90-96页 |
| ·三元合金Si-ZnS纳米线的形貌 | 第90-91页 |
| ·三元合金Si-ZnS纳米线的结构与成份 | 第91-92页 |
| ·三元合金Si-ZnS纳米线的微观结构与成份 | 第92-95页 |
| ·三元合金Si-ZnS纳米线的生长机制 | 第95页 |
| ·三元合金Si-ZnS纳米线的发光性能 | 第95-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-99页 |
| 第六章 芯—壳异质纳米线的制备、表征和生长机理研究 | 第99-114页 |
| ·引言 | 第99-100页 |
| ·Cu-SiO2芯—壳纳米线 | 第100-107页 |
| ·引言 | 第100-101页 |
| ·实验过程与测试 | 第101页 |
| ·实验结果与分析 | 第101-106页 |
| ·Cu-SiO2纳米电缆的生长机制 | 第106-107页 |
| ·ZnS-CuS芯—壳纳米线 | 第107-111页 |
| ·引言 | 第107页 |
| ·实验过程与测试 | 第107-108页 |
| ·实验结果与分析 | 第108-111页 |
| ·ZnS-CuS芯—壳纳米线的生长机制 | 第111页 |
| ·本章小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-114页 |
| 第七章 总结与展望 | 第114-117页 |
| ·本文主要研究内容 | 第114-115页 |
| ·展望 | 第115-117页 |
| 攻读博士学位期间参与项目和完成论文 | 第117-118页 |
