| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-16页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·国内外动态 | 第11-14页 |
| ·激光化学国内外动态 | 第11-12页 |
| ·半导体湿腐法和液膜浸润刻蚀法研究动态 | 第12-13页 |
| ·半导体激光诱导化学腐蚀的研究动态 | 第13-14页 |
| ·本文主要研究体系 | 第14-16页 |
| 第二章 基本理论分析 | 第16-29页 |
| ·液滴分析与杨氏方程 | 第16-17页 |
| ·光化学基本概念 | 第17-21页 |
| ·光化学第一定律 | 第19-21页 |
| ·光化学第二定律 | 第21页 |
| ·原子对光的吸收 | 第21-23页 |
| ·分子对光的吸收 | 第23页 |
| ·溶液的光化学 | 第23-24页 |
| ·离子型物质的光化学 | 第24-26页 |
| ·半导体工艺中的激光化学 | 第26-27页 |
| ·GaAs的腐蚀特性 | 第27-29页 |
| 第三章 液膜自然浸润过程与边缘腐蚀特性 | 第29-38页 |
| ·实验装置与原理 | 第29-31页 |
| ·实验装置 | 第29-30页 |
| ·实验原理 | 第30-31页 |
| ·液膜自然浸润过程研究 | 第31-35页 |
| ·观察浸润过程 | 第31-32页 |
| ·液滴浸润分析 | 第32-35页 |
| ·液膜边缘腐蚀效果的观察与分析 | 第35-38页 |
| ·观察液膜边缘腐蚀效果 | 第35-37页 |
| ·实验结果的分析 | 第37-38页 |
| 第四章 横向腐蚀特性以及腐蚀表面均匀性的分析 | 第38-50页 |
| ·横向腐蚀研究 | 第38-42页 |
| ·实验装置与方法 | 第38-39页 |
| ·实验原理 | 第39-40页 |
| ·实验结果与分析 | 第40-42页 |
| ·液膜浸润刻蚀表面粗糙度研究 | 第42-50页 |
| ·实验装置与方法 | 第43-44页 |
| ·浅液层简化热模型下的灰度标准差值与粗糙度关系分析 | 第44-46页 |
| ·粗糙度测定的具体方法 | 第46-48页 |
| ·粗糙度变化特性的灰度归一化标准差值表征 | 第48-50页 |
| 第五章 激光诱导液膜浸润法制作圆孔 | 第50-63页 |
| ·实验装置与原理 | 第51-53页 |
| ·实验原理 | 第51-52页 |
| ·实验装置与方法 | 第52-53页 |
| ·调整液膜表面弧度比较圆孔形状 | 第53-55页 |
| ·实验原理 | 第53-54页 |
| ·实验结果与讨论 | 第54-55页 |
| ·调整溶液配比比较圆孔形状 | 第55-58页 |
| ·实验原理 | 第55-56页 |
| ·实验结果与分析 | 第56-58页 |
| ·消除晶向影响的方法 | 第58-63页 |
| ·实验装置 | 第58-59页 |
| ·实验理论基础 | 第59-60页 |
| ·实验结果与讨论 | 第60-63页 |
| 第六章 总结 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第71页 |