六硼化镧薄膜的制备及发射特性的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-13页 |
| ·六硼化镧薄膜的国内外研究状况 | 第10-11页 |
| ·课题研究的主要意义及目的 | 第11-12页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第12-13页 |
| 第二章 薄膜的生长过程和薄膜结构 | 第13-20页 |
| ·薄膜生长过程概述 | 第13-16页 |
| ·形核与生长的物理过程 | 第15页 |
| ·新相的自发形核及非自发形核理论 | 第15-16页 |
| ·薄膜的微观结构及生长 | 第16-18页 |
| ·影响薄膜结构的因素 | 第18-20页 |
| 第三章 薄膜制备工艺 | 第20-24页 |
| ·概述 | 第20页 |
| ·物理气相沉积 | 第20-22页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第20-22页 |
| ·真空蒸镀原理 | 第20-21页 |
| ·蒸镀的常见方法 | 第21-22页 |
| ·电泳 | 第22-24页 |
| 第四章 热电子发射及场致发射理论 | 第24-28页 |
| ·热电子发射 | 第24-25页 |
| ·热电子发射机理 | 第24页 |
| ·热电子发射方程 | 第24-25页 |
| ·场致发射理论 | 第25-28页 |
| ·场致发射 | 第25-26页 |
| ·F-N 公式 | 第26-28页 |
| 第五章 六硼化镧薄膜的制备 | 第28-45页 |
| ·六硼化镧材料的特性 | 第28-30页 |
| ·六硼化镧薄膜的电泳法制备 | 第30-38页 |
| ·电泳液中主要成分的确定 | 第30-34页 |
| ·溶剂的选择 | 第30-31页 |
| ·电荷源的应用 | 第31-32页 |
| ·粘结剂的确定 | 第32页 |
| ·电泳液主要成分对薄膜沉积的影响 | 第32-34页 |
| ·薄膜的电泳制备 | 第34-36页 |
| ·实验结果与讨论 | 第36-38页 |
| ·SEM 分析 | 第36-37页 |
| ·XRD 分析 | 第37-38页 |
| ·六硼化镧薄膜的电子束蒸发法制备 | 第38-39页 |
| ·六硼化镧的清洗及处理 | 第38页 |
| ·薄膜的制备 | 第38-39页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的XRD 分析及晶粒尺寸计算 | 第40-44页 |
| ·XRD 分析 | 第40-43页 |
| ·薄膜结晶相的晶粒度大小计算 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第六章 六硼化镧薄膜的发射性能测试 | 第45-59页 |
| ·电泳薄膜的热电子发射性能测试 | 第45-50页 |
| ·功函数的测量 | 第45-48页 |
| ·真空度的影响 | 第48-49页 |
| ·电泳LaB_6 薄膜的热发射稳定性测试 | 第49-50页 |
| ·薄膜阵列的制备及场致发射性能测试 | 第50-57页 |
| ·硅阵列的制备 | 第50-52页 |
| ·薄膜的沉积 | 第52-53页 |
| ·六硼化镧薄膜阵列的场致发射性能测试 | 第53-56页 |
| ·薄膜场发射阵列发射的稳定性 | 第56-57页 |
| ·结果分析 | 第57页 |
| ·小结 | 第57-59页 |
| 第七章 结论及展望 | 第59-61页 |
| ·主要工作总结 | 第59-60页 |
| ·工作展望 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 攻读硕士研究期间取得的成果 | 第65-66页 |
