| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 综述 | 第11-28页 |
| ·自旋电子学简介 | 第11-12页 |
| ·稀磁半导体的研究概述 | 第12-20页 |
| ·稀磁半导体概念及分类 | 第14-16页 |
| ·稀磁半导体的物理性质 | 第16-17页 |
| ·稀磁半导体中的交换相互作用 | 第17-20页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的研究进展 | 第20-26页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的理论研究 | 第21-22页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的实验研究 | 第22-26页 |
| ·本文的选题依据及主要研究工作 | 第26-28页 |
| 第二章 材料制备及分析技术 | 第28-36页 |
| ·材料的制备方法 | 第28-30页 |
| ·粉体及固体靶材的制备 | 第28-29页 |
| ·薄膜材料的制备 | 第29-30页 |
| ·样品的表征方法及其原理 | 第30-33页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第30页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第30-31页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第31-32页 |
| ·扫描探针显微镜（SPM） | 第32-33页 |
| ·磁性与输运性质的测量 | 第33-36页 |
| ·振动样品磁强计 | 第33页 |
| ·物理性能测量系统 | 第33-34页 |
| ·范德堡法测量电阻率及霍耳效应 | 第34-36页 |
| 第三章 Zn_(0.96)Mn_(0.04)O 薄膜和粉体的制备、结构和磁 | 第36-50页 |
| ·样品的制备 | 第36-38页 |
| ·粉体样品的制备 | 第36-37页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第37-38页 |
| ·结构、形貌和成分分析 | 第38-42页 |
| ·结构分析 | 第38-39页 |
| ·形貌分析 | 第39-40页 |
| ·成分分析 | 第40-41页 |
| ·Mn 的化学状态分析 | 第41-42页 |
| ·磁学性能的检测与分析 | 第42-48页 |
| ·粉末样品的磁学性能 | 第42-44页 |
| ·薄膜样品的磁学性能 | 第44-46页 |
| ·薄膜样品铁磁性的起源 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 Cu-ZnO 薄膜的制备、结构与性能 | 第50-62页 |
| ·样品的制备及表征 | 第50-51页 |
| ·直流反应溅射工艺条件 | 第50页 |
| ·样品系列编号 | 第50-51页 |
| ·Cu-ZnO 系列样品的结构和形貌分析 | 第51-55页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第51-53页 |
| ·扫描探针显微镜分析（SPM） | 第53-54页 |
| ·X 射线光电子能谱分析（XPS） | 第54-55页 |
| ·系列样品的磁学性能 | 第55-57页 |
| ·系列样品的电学性质 | 第57-59页 |
| ·磁性起源 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 Co-ZnO 薄膜的制备、结构与磁性 | 第62-72页 |
| ·Co-ZnO 系列样品的制备及表征 | 第62-63页 |
| ·溅射工艺条件 | 第62页 |
| ·样品系列编号 | 第62-63页 |
| ·Co-ZnO 系列样品的结构和形貌分析 | 第63-66页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第63-64页 |
| ·扫描探针显微镜分析（SPM） | 第64-66页 |
| ·样品的磁学性质研究 | 第66-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-84页 |
| 攻读硕士期间完成的论文 | 第84页 |
| 硕士研究生期间参加会议情况 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |