薄膜温度传感器的研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-27页 |
| ·论文选题背景及其研究意义 | 第8-9页 |
| ·切削温度测量的国内外研究概况及发展趋势 | 第9-17页 |
| ·自然热电偶法 | 第9-10页 |
| ·人工热电偶法 | 第10页 |
| ·半人工热电偶法 | 第10-11页 |
| ·薄膜热电偶法 | 第11-15页 |
| ·红外辐射测温法 | 第15-17页 |
| ·溅射薄膜沉积技术简介 | 第17-24页 |
| ·溅射现象 | 第18页 |
| ·典型溅射沉积方法 | 第18-21页 |
| ·反应溅射 | 第21-23页 |
| ·偏压溅射 | 第23页 |
| ·微波ECR等离子体源增强溅射 | 第23-24页 |
| ·本文研究的主要内容及组织结构 | 第24-27页 |
| 2 总体方案设计 | 第27-33页 |
| ·系统的工作原理 | 第27-28页 |
| ·温度信号的获取 | 第28-29页 |
| ·数据采集板的选择及其应用 | 第29-30页 |
| ·信号调理电路的设计 | 第30-32页 |
| ·系统软件的设计 | 第32-33页 |
| 3 薄膜热电偶温度传感器的研制 | 第33-49页 |
| ·薄膜热电偶的工作原理 | 第33-38页 |
| ·热电效应的产生和组成 | 第33-36页 |
| ·热电偶测温的四个重要定律 | 第36-38页 |
| ·测温传感器的结构设计 | 第38-41页 |
| ·前刀面测温刀片 | 第39-40页 |
| ·后刀面测温刀片 | 第40-41页 |
| ·有限元分析 | 第41-44页 |
| ·信号调理电路及补偿方法的设计 | 第44-46页 |
| ·正负压固定输出式稳压电源 | 第44-45页 |
| ·冷端补偿方法 | 第45-46页 |
| ·低通滤波和陷波电路 | 第46页 |
| ·系统软件的设计 | 第46-49页 |
| 4 绝缘膜及热电偶的制作 | 第49-57页 |
| ·绝缘膜的制作 | 第49-54页 |
| ·微波ECR射频反应磁控溅射原理 | 第49-51页 |
| ·溅射沉积SiO_2绝缘薄膜过程 | 第51-52页 |
| ·绝缘膜沉积过程中的工艺参数选择 | 第52-54页 |
| ·SiO_2薄膜电性能分析与膜厚测试 | 第54页 |
| ·热电偶膜的制作与热电偶膜的性能测试 | 第54-57页 |
| 5 热电偶的标定及切削实验 | 第57-67页 |
| ·薄膜热电偶的静态标定 | 第57-60页 |
| ·静态标定时的注意事项 | 第57-58页 |
| ·具体静态标定过程 | 第58-59页 |
| ·静态标定结果 | 第59-60页 |
| ·薄膜热电偶的动态标定 | 第60-62页 |
| ·传感器误差分析 | 第62-63页 |
| ·切削实验 | 第63-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 附录A 部分实物照片 | 第71-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
