ZnO基透明导电膜的制备及特性研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| ·透明导电氧化物的分类及用途 | 第8-11页 |
| ·TCO 的主要类型及特性 | 第9-10页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第10-11页 |
| ·ZnO 透明导电薄膜的特性、制备及应用 | 第11-19页 |
| ·ZnO 特性 | 第11-12页 |
| ·掺杂ZnO 薄膜的制备 | 第12-17页 |
| ·掺杂氧化锌薄膜光电性质的应用 | 第17-18页 |
| ·掺杂氧化锌薄膜其他性质的应用 | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO 透明导电薄膜的基本原理 | 第19-23页 |
| ·溶胶-凝胶法基本名词术语 | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶法镀膜原理 | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的特点 | 第20页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的基本过程 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法薄膜生长过程 | 第21-23页 |
| ·本研究课题的提出 | 第23-24页 |
| ·论文工作构思及主要工作任务 | 第24页 |
| ·创新点 | 第24-25页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第25-32页 |
| ·溶胶-凝胶法制备掺杂ZnO 薄膜主要原料 | 第25页 |
| ·实验设备与器材 | 第25-26页 |
| ·薄膜试样制备过程 | 第26-29页 |
| ·基质溶胶制膜过程的化学反应 | 第26-27页 |
| ·掺杂溶胶的配制 | 第27-28页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第28页 |
| ·提拉镀膜、干燥和热处理 | 第28-29页 |
| ·薄膜结构和性能的检测 | 第29-32页 |
| ·XRD 分析 | 第29页 |
| ·SEM 分析 | 第29页 |
| ·XPS 分析 | 第29页 |
| ·薄膜电阻率测量 | 第29-30页 |
| ·UV-VIS 测量 | 第30-32页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第32-56页 |
| ·ZnO 透明导电膜的电性能 | 第32-39页 |
| ·AZO 半导体薄膜的导电机理 | 第32-35页 |
| ·不同掺杂物、掺杂量对薄膜电学性能的影响 | 第35-36页 |
| ·热处理温度对薄膜电学性能的影响 | 第36-37页 |
| ·溶胶浓度与涂膜层数对薄膜电学性能的影响 | 第37-39页 |
| ·不同气氛的影响 | 第39页 |
| ·ZnO 薄膜工艺对光学性能的影响 | 第39-45页 |
| ·ZnO 薄膜的光学性质 | 第39-41页 |
| ·掺杂量对薄膜光学性能的影响 | 第41-42页 |
| ·热处理温度对薄膜光学性能的影响 | 第42-43页 |
| ·溶胶浓度与涂膜层数对薄膜光学性能的影响 | 第43-44页 |
| ·不同气氛的影响 | 第44-45页 |
| ·薄膜的XPS 分析 | 第45-46页 |
| ·薄膜XRD 分析 | 第46-50页 |
| ·掺杂Al 离子的ZnO 薄膜 | 第46-47页 |
| ·掺杂AlF_3的ZnO薄膜 | 第47-48页 |
| ·掺杂F 离子的ZnO 薄膜 | 第48-49页 |
| ·不同掺杂体系间的比较 | 第49-50页 |
| ·薄膜的SEM 形貌 | 第50-56页 |
| ·掺杂Al 离子的ZnO 薄膜 | 第50页 |
| ·掺杂AlF_3的ZnO薄膜 | 第50-52页 |
| ·掺杂F 离子ZnO 薄膜 | 第52-53页 |
| ·氩气气氛下热处理薄膜 | 第53-54页 |
| ·不同气氛下处理的薄膜 | 第54-55页 |
| ·薄膜断面 | 第55-56页 |
| 第四章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-64页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
