| 北京化工大学位论文原创性声明 | 第1页 |
| 关于论文使用授权的说明 | 第2-4页 |
| 学位论文数据集 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-25页 |
| ·引言 | 第17-18页 |
| ·TiO_2的微观结构 | 第18-20页 |
| ·TiO_2的表面修饰 | 第20-24页 |
| ·纳米金属材料的表面修饰 | 第20-21页 |
| ·无机纳米半导体材料的表面修饰 | 第21页 |
| ·有机分子的表面修饰 | 第21-24页 |
| ·光敏有机分子的表面修饰 | 第21-22页 |
| ·非光敏有机分子的表面修饰 | 第22-24页 |
| ·课题的提出和研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 吡啶修饰TiO_2多孔薄膜的制备 | 第25-40页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·实验 | 第25-30页 |
| ·实验试剂 | 第25-26页 |
| ·TiO_2胶体的制备 | 第26-28页 |
| ·TiO_2多孔薄膜的制备 | 第28页 |
| ·导电玻璃基底的处理 | 第28页 |
| ·TiO_2多孔薄膜的制备 | 第28页 |
| ·TiO_2多孔薄膜的高温处理 | 第28页 |
| ·吡啶修饰TiO_2多孔薄膜制备方法 | 第28-29页 |
| ·吡啶修饰TiO_2多孔薄膜的表征 | 第29-30页 |
| ·X射线粉末衍射(XRD) | 第29页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第29页 |
| ·傅立叶红外光谱(FTIR) | 第29-30页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-39页 |
| ·吡啶修饰前后TiO_2多孔薄膜的晶型 | 第30-32页 |
| ·吡啶修饰前后TiO_2多孔薄膜的表面形貌 | 第32-33页 |
| ·傅立叶红外测试结果分析 | 第33-34页 |
| ·X射线光电子能谱测试结果分析 | 第34-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第三章 吡啶修饰TiO_2多孔薄膜光电性能研究 | 第40-52页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验 | 第40-41页 |
| ·实验试剂 | 第40页 |
| ·紫外—可见透过光谱 | 第40页 |
| ·电流—电压(I～V)曲线 | 第40-41页 |
| ·Mott-Schottky测试 | 第41页 |
| ·可变电势光谱法测定平带电位 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-51页 |
| ·紫外—可见透过结果分析 | 第41-42页 |
| ·电流—电压(I～V)关系特性 | 第42-44页 |
| ·Mott-Schottky测试结果分析 | 第44-46页 |
| ·可变电势光谱法测定平带电位结果分析 | 第46-48页 |
| ·吡啶修饰TiO_2多孔薄膜的光电化学稳定性研究 | 第48-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第四章 1-甲基咪唑、吡咯和噻吩修饰TiO_2多孔薄膜制备及其性能初步研究 | 第52-56页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验 | 第52-53页 |
| ·实验试剂 | 第52页 |
| ·1-甲基咪唑、吡咯和噻吩修饰TiO_2多孔薄膜的制备 | 第52页 |
| ·1-甲基咪唑、吡咯和噻吩修饰TiO_2多孔薄膜的表征 | 第52-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-55页 |
| ·紫外—可见透过结果分析 | 第53页 |
| ·1—甲基咪唑、吡咯和噻吩修饰TiO_2多孔薄膜电极I～V特性 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 研究成果及发表学术论文 | 第63-64页 |
| 作者及导师简介 | 第64页 |
