高效微射流阵列热沉内流体压降和传热特性的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
符号表 | 第8-10页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
·本研究课题的背景 | 第10-11页 |
·电子设备上的应用 | 第10页 |
·大功率半导体激光器阵列上的应用 | 第10-11页 |
·相关领域的研究进展及有待深入研究的问题 | 第11-13页 |
·射流冲击理论及国内外文献综述 | 第13-17页 |
·射流冲击理论 | 第13-15页 |
·文献综述 | 第15-17页 |
·本研究课题的来源及主要研究内容 | 第17-19页 |
第2章 阵列射流冲击传热实验系统与实验方案 | 第19-27页 |
·实验装置 | 第19-20页 |
·实验件制作 | 第20-22页 |
·实验步骤 | 第22-23页 |
·物理量的测量 | 第22页 |
·具体实验步骤 | 第22-23页 |
·实验误差分析 | 第23-26页 |
·实验误差环节 | 第23页 |
·误差环节的具体分析和控制 | 第23-26页 |
·本章小结 | 第26-27页 |
第3章 阵列射流冲击传热实验结果与分析 | 第27-33页 |
·冲击表面传热系数的计算原理 | 第27-28页 |
·实验数据处理方法 | 第28-29页 |
·实验结果分析 | 第29-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
第4章 微射流阵列热沉实验系统与实验方案 | 第33-45页 |
·实验装置 | 第33-34页 |
·实验件制作 | 第34-39页 |
·热沉选材及加工制造 | 第34-36页 |
·膜的选材 | 第36-38页 |
·加热膜制作 | 第38页 |
·热沉组装 | 第38-39页 |
·实验步骤 | 第39-41页 |
·物理量的测量 | 第39-40页 |
·具体实验步骤 | 第40-41页 |
·实验误差分析 | 第41-43页 |
·实验误差环节 | 第41-42页 |
·测量仪器的误差环节的具体分析和控制 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第5章 微射流阵列热沉实验结果与分析 | 第45-64页 |
·热沉压降特性 | 第45-49页 |
·流动阻力分析及数据处理方法 | 第45-46页 |
·各部分阻力计算 | 第46-48页 |
·实验值与计算值比较 | 第48-49页 |
·热沉传热特性 | 第49-63页 |
·传热分析及数据处理方法 | 第50-51页 |
·热阻与泵功 | 第51-53页 |
·散热片底面温度分布 | 第53-62页 |
·平均努谢尔特数 | 第62-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-69页 |
附录1 热电偶的标定 | 第69-71页 |
附录2 热像仪的使用 | 第71-73页 |
附录3 镀膜机的使用 | 第73-74页 |
攻读学位期间发表的论文 | 第74-75页 |
致谢 | 第75页 |